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六方氮化硼纳米片的创新制备与应用展望

目录

一、内容综述................................................3

1.研究背景与意义........................................4

2.国内外研究现状........................................6

3.创新制备技术与应用概述................................7

二、六方氮化硼纳米片的创新制备..............................8

1.化学气相沉积法.......................................10

1.1原料选择与反应机理................................11

1.2工艺参数对薄膜质量的影响..........................13

1.3设备改进与优化....................................14

2.溶液沉积法...........................................15

2.1溶液成分与浓度....................................16

2.2沉积条件对薄膜形貌的影响..........................18

2.3表面改性技术......................................19

3.动力学激光沉积法.....................................20

3.1激光器类型与参数设置..............................21

3.2均匀薄膜生长机理..................................23

3.3纳米孔洞结构的形成机制............................25

4.分子束外延法.........................................27

4.1原料选择与束流特性................................28

4.2生长速率与薄膜质量的关系..........................29

4.3表面粗糙度控制方法................................30

5.其他制备方法简介.....................................31

5.1离子束溅射法......................................32

5.2电泳沉积法........................................33

5.3纳米压印技术......................................34

三、六方氮化硼纳米片的应用展望.............................35

1.电子器件领域.........................................37

1.1透明导电膜........................................38

1.2高效电子器件......................................39

1.3传感器技术........................................40

2.能源存储与转换领域...................................41

2.1电池材料..........................................43

2.2可再生能源系统....................................44

2.3能量存储器件......................................45

3.复合材料与其他领域...................................46

3.1复合增强材料......................................48

3.2环境治理与修复....................................50

3.3生物医学