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光电子器件的光学薄膜技术考核试卷

考生姓名：__________答题日期：__________得分：__________判卷人：__________

一、单项选择题（本题共20小题，每小题1分，共20分，在每小题给出的四个选项中，只有一项是符合题目要求的）

1.光电子器件中，以下哪一项不属于光学薄膜的基本功能？（）

A.反射

B.透射

C.吸收

D.导电

2.下列哪种材料常用于制备光学薄膜？（）

A.铜

B.铝

C.硅

D.钛

3.光学薄膜的制备方法中，不包括以下哪一种？（）

A.真空蒸发

B.磁控溅射

C.化学气相沉积

D.激光切割

4.下列哪种光学薄膜主要应用于光电子器件的反射层？（）

A.反射膜

B.分光膜

C.增透膜

D.滤光膜

5.光学薄膜的厚度通常用什么单位表示？（）

A.米

B.厘米

C.毫米

D.纳米

6.以下哪个不是光学薄膜的优点？（）

A.质量轻

B.抗腐蚀

C.易加工

D.成本低

7.光电子器件中，光学薄膜的减反射作用主要是通过什么实现的？（）

A.光的散射

B.光的干涉

C.光的衍射

D.光的折射

8.在光学薄膜的制备过程中，以下哪种现象会导致薄膜质量下降？（）

A.膜层均匀

B.膜层结构致密

C.膜层内应力过大

D.膜层与基底的附着力强

9.以下哪种材料常用作光学薄膜的基底材料？（）

A.铜

B.玻璃

C.塑料

D.木材

10.下列哪个波段的光学薄膜主要用于夜视设备？（）

A.可见光波段

B.红外光波段

C.紫外光波段

D.微波波段

11.在光学薄膜的制备过程中，以下哪种方法可以提高膜层的附着强度？（）

A.提高蒸发速率

B.降低基底温度

C.使用离子束辅助沉积

D.减小膜层厚度

12.以下哪种光学薄膜主要用于光电子器件的透镜？（）

A.反射膜

B.分光膜

C.增透膜

D.镀膜镜片

13.光学薄膜的制备过程中，以下哪种因素会影响膜层的折射率？（）

A.膜层厚度

B.蒸发速率

C.基底温度

D.沉积时间

14.下列哪种光学薄膜主要用于光电子器件的光调制？（）

A.反射膜

B.增透膜

C.电光膜

D.磁光膜

15.以下哪种现象是光学薄膜中的一种光学损失？（）

A.吸收损失

B.散射损失

C.干涉损失

D.衍射损失

16.在光学薄膜的设计中，以下哪个参数与膜层的透射率无关？（）

A.折射率

B.厚度

C.波长

D.温度

17.以下哪个因素会影响光学薄膜的机械性能？（）

A.膜层结构

B.膜层材料

C.膜层厚度

D.基底材料

18.下列哪种光学薄膜主要用于光电子器件的光传感器？（）

A.反射膜

B.分光膜

C.光敏膜

D.增透膜

19.以下哪种光学薄膜主要用于光电子器件的光隔离？（）

A.磁光膜

B.电光膜

C.增透膜

D.反射膜

20.在光学薄膜的制备过程中，以下哪种方法可以减小膜层的表面粗糙度？（）

A.提高蒸发速率

B.降低蒸发速率

C.提高基底温度

D.降低基底温度

二、多选题（本题共20小题，每小题1.5分，共30分，在每小题给出的四个选项中，至少有一项是符合题目要求的）

1.光学薄膜在光电子器件中的应用包括以下哪些？（）

A.提高光的透射率

B.增强光的反射

C.调制光的相位

D.改变光的偏振状态

2.以下哪些是制备光学薄膜的常见方法？（）

A.真空蒸发镀膜

B.磁控溅射镀膜

C.化学气相沉积

D.丝网印刷

3.光学薄膜的性能受到以下哪些因素的影响？（）

A.膜层材料

B.膜层厚度

C.基底材料

D.制备工艺

4.以下哪些材料常用于制备光学薄膜的膜层？（）

A.二氧化硅

B.钛dioxide

C.硼磷酸

D.铜

5.光学薄膜的减反射功能主要应用于以下哪些场合？（）

A.太阳能电池板

B.眼镜片

C.摄像机镜头

D.光学仪器的外壳

6.以下哪些是光学薄膜的优点？（）

A.质量轻

B.抗磨损

C.优良的化学稳定性

D.易于大规模生产

7.光学薄膜的制备过程中，以下哪些因素会影响膜层的质量？（）

A.真空度

B.蒸发速率

C.基底温度

D.沉积时间

8.以下哪些光学薄膜可以用于光电子器件的光学滤波？（）

A.带通滤波器

B.带阻滤波器

C.反射膜

D.透射膜

9.光学薄膜在光电子器件中的作用包括以下哪些？（）

A.光的保护

B.光的增强

C.光的调制

D.光的检测

10.以下哪些方法可以提高光学