年产xx光刻胶项目数字化转型手册（仅供参考）.docx

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年产xx光刻胶项目

数字化转型手册

引言

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光刻胶行业是半导体制造过程中的关键环节，主要用于微电子制造中的光刻工艺。随着全球半导体产业的快速发展，对高精度、高性能光刻胶的需求持续增长。目前，光刻胶的主要应用领域包括集成电路（IC）制造、光电子设备、显示面板等。在市场中，主要的光刻胶供应商包括东京应化、杜邦、JSR等，其中东京应化占据了较大市场份额。近年来，随着制程技术向7nm、5nm甚至更小节点推进，对光刻胶的要求不断提高，