光刻胶，前46大企业占据全球93%的市场份额（2023）.pdf

全球市场研究报告

光刻胶全球市场总体规模

光刻胶是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质，

由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等主要化学品成分和其他助剂组成，在紫外光、深紫外光、电子束、离子

束等光照或辐射下，其溶解度发生变化，经适当溶剂处理，溶去可溶性部分，最终得到所需图像。其被广泛

应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键性材料。在光刻工艺中，光刻胶被

均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上，经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜

上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。

光刻胶在PCB、LCD和半导体领域具有重要作用：在PCB领域，光刻胶主要包括干膜光刻胶、湿膜光刻胶、

光成像阻焊油墨。在LCD领域，彩色光刻胶和黑色光刻胶是制备彩色滤光片的核心材料，触摸屏光刻胶用

于在玻璃基板上沉积ITO制作触摸电极；TFT-LCD光刻胶用于液晶面板的前段Array制程中微细图形的加

工。在半导体领域，光刻工艺是芯片制造最核心的工艺，成本约为整个芯片制造工艺的，光刻胶的质量和性

能是影响芯片性能、成品率及可靠性的关键因素。根据曝光波长不同，目前光刻胶又可分为普通宽普光刻

胶、g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）及最先进的EUV(13.5nm)光刻胶，

等级越往上其极限分辨率越高，同一面积的硅晶圆布线密度就越大，性能越好。

本报告研究光刻胶，包括半导体光刻胶、显示面板用光刻胶和PCB光刻胶三大类产品。

根据QYResearch的统计及预测，2023年，全球光刻胶（包括半导体光刻胶、显示面板用光刻胶和PCB光

刻胶）市场销售额达到了58.77亿美元，预计2030年将达到95.05亿美元，年复合增长率（CAGR）为6.84%

（2024-2030）。

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图.光刻胶，全球市场总体规模

GlobalMarketSize($Mn)

9,505

6,391

5,136

201920242030

如上图表/数据，摘自QYResearch半导体研究中心最新报告“全球光刻胶市场研究报告2024-2030”.

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图.全球光刻胶市场前46强生产商排名及市场占有率（基于2023年调研数据；目前最新数据以本公司

最新调研数据为准）

全球市场主要企业排名

东京应化TOK

富士胶片Fujifilm

JSR

信越化学Shin-Etsu

DuPont

住友化学

太阳油墨

旭化成

东进世美肯

長興材料Eternal