等离子体概述.ppt

等离子体表面工艺?

①等离子体表面处理：为了提高刀具、模具等的性能，可以用等离子体对金属表面进行氮、碳、硼或碳氮的渗透。这种方法的特点是,不是在表面加一覆盖层,而是改变基体表面的材料结构及其性能。处理过程中，工件温度比较低，不使工件变形，这对精密的部件很重要。这一方法可以应用于各种金属基体，主要有辉光放电渗氮，氮碳共渗，渗硼。

第29页,共54页，5月，星期六，2024年，5月②等离子体在电子工业中的应用：大规模集成电路片心的生产工艺，过去采用化学方式，现在采用等离子体方法代替之后，不仅降低了工艺过程中的温度，还因将涂胶、显影、刻蚀、除胶等化学湿法改为等离子体干法，使工艺更简单，便于实现自动化，提高成品率。等离子体方法加工的片心分辨率及保真度都高，对提高集成度及可靠性均有利。

第30页,共54页，5月，星期六，2024年，5月等离子体成膜：PECVDPECVD(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition)--等离子体增强化学气相沉积法实验机理：是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。低温等离子体应用第31页,共54页，5月，星期六，2024年，5月PECVD作用：在硅片表面镀上一层深蓝色的氮化硅膜，可以充分吸收太阳光，降低反射，并且氮化硅膜有钝化的作用，保护电池片不受污染。

PECVD原理：利用硅烷（SiH4）与氨气（NH3）在等离子体中反应，生成Si3N4沉积到硅片表面。

干法刻蚀化学方程式：PECVD效果：

第32页,共54页，5月，星期六，2024年，5月纳米尺度上

针尖状表面特征类金刚石表面制造实验室与日本原子力所先进科学研究中心合作，开展了非平衡薄膜表面制造的研究，成功第地制备了纳米尺度的针状表面、波纹表面，树枝状表面、正弦表面等表面结构，其中波纹表面，是应用薄膜生长过程的自组织过程中直接形成的。（J.Chem.Phys.116,10458，2002）纳米尺度上

波纹状表面树枝状表面大面积正弦表面第33页,共54页，5月，星期六，2024年，5月毫米级厚金刚石片制备研究应用PCVD方法开展金刚石模制备研究开展了多年，对制备过程中物理化学及工艺过程进行了系统研究。可以稳定地制备高质量毫米量级厚度的金刚石片，并用金刚石膜加工成金刚石电子热沉片，热导率高达7.6W/(k·cm)，可用于大功率电子器件。（PhysicsofPlasma,5,1541,1998、J.Phys.D,31,3327,1998、J.Vac.Sci.Tech.A，20,941,2002）纯金刚石片（直径30mm）半透纯金刚石

热沉片10x10mm2带Si衬底的金刚石厚膜金刚石质量表征第34页,共54页，5月，星期六，2024年，5月等离子体军事及高技术应用军事应用等离子体天线、等离子体隐身、等离子体减阻、等离子体鞘套、等离子体诱饵高技术大功率微波器件、X射线激光、强流束技术、等离子体推进低温等离子体应用第35页,共54页，5月，星期六，2024年，5月低温等离子体应用第36页,共54页，5月，星期六，2024年，5月什么保护了我们地球：等离子体空间天体等离子体第37页,共54页，5月，星期六，2024年，5月北极光空间天体等离子体第38页,共54页，5月，星期六，2024年，5月我们的太阳空间天体等离子体第39页,共54页，5月，星期六，2024年，5月星系：巨大的聚变反应堆空间天体等离子体第40页,共54页，5月，星期六，2024年，5月聚变与裂变能聚变等离子体D3He4HeTULi聚变裂变聚变能裂变能原子质量平均结合能第41页,共54页，5月，星期六，2024年，5月核聚变反应聚变等离子体D+T=n+4HeD+T=p+3He第42页,共54页，5月，星期六，2024年，5月受控热核聚变聚变等离子体10克氘＋15克氚

＝人一生所需能源500升海水含10克氘无环境污染及长寿命放

射性废料第43页,共54页，5月，星期六，2024年，5月聚变需要亿度高温聚变等离子体劳逊判据（Q＝1）T10keV（1亿度）nt3x1020m-3s第44页,共54页，5月，星期六，2024年，5月实现聚变的三种途径聚变等离子体第45页,共54页，5月，星期六，2024年，5月托卡马克装置(JET)聚变等离子