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《磁控溅射条件下CrN的结构计算与性能研究》

一、引言

磁控溅射技术是一种常用的薄膜制备技术，在材料科学领域具有广泛的应用。CrN作为一种具有高硬度、高耐磨性和良好化学稳定性的材料，其结构和性能的研究具有重要意义。本文旨在通过磁控溅射技术制备CrN薄膜，并对其结构进行计算分析，同时研究其性能表现。

二、实验方法

1.材料准备

选用高纯度铬靶材作为溅射源，氮气作为溅射气体。

2.磁控溅射设备

采用磁控溅射设备进行薄膜制备，设备包括真空系统、溅射源、加热系统等。

3.实验过程

在真空环境下，通过磁控溅射技术将铬靶材溅射到基底上，形成CrN薄膜。控制溅射功率、氮气流量、基底温度等参数，以获得不

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