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玻璃镀膜技术与工艺考核试卷

考生姓名：________________答题日期：____年__月__日得分：_____________判卷人：

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一、单项选择题（本题共20小题，每小题1分，共20分，在每小题给出的四个选项中，只

有一项是符合题目要求的）

1.玻璃镀膜技术中，以下哪一种方法不属于物理气相沉积？（）

A.磁控溅射

B.真空蒸发镀膜

C.化学气相沉积

D.溅射镀膜

2.下列哪种气体常用作磁控溅射的溅射气体？（）

A.氧气

B.氩气

C.氮气

D.空气

3.在真空蒸发镀膜过程中，蒸发源的温度通常需要达到多少摄氏度以上？（）

A.1000℃

B.1500℃

C.2000℃

D.2500℃

4.以下哪种材料不适合用于玻璃镀膜？（）

A.铝

B.镀

C.钛

D.铜

5.玻璃镀膜的主要作用不包括以下哪一项？（）

A.防反射

B.防辐射

C.增加硬度

D.提高导电性

6.以下哪个工艺参数不会影响磁控溅射镀膜的质量？（）

A.溅射功率

B.工作气压

C.靶材与基片距离

D.靶材厚度

7.在化学气相沉积过程中，以下哪种化学反应不会发生？（）

A.热分解反应

B.气相聚合反应

C.氧化还原反应

D.光照分解反应

8.以下哪种材料具有较低的沉积温度，适合用于塑料基材的镀膜？（)

A.铝

B.镀

C.钛

D.铬

9.玻璃镀膜后，以下哪种现象不会出现？（）

A.颜色变化

B.光学性能改变

C.物理性能下降

D.附着力增强

10.在镀膜工艺中，以下哪种方法可以减少针孔和颗粒的产生？（）

A.提高溅射功率

B.降低工作气压

C.增加靶材与基片距离

D.减少溅射时间

11.以下哪个因素会影响玻璃镀膜的光学性能？（）

A.镀膜厚度

B.镀膜材料

C.镀膜工艺

D.所有以上因素

12.在镀膜过程中，以下哪种措施可以防止基片受到污染？（）

A.提高工作真空度

B.降低溅射功率

C.使用活性炭过滤气氛

D.所有以上措施

13.以下哪种镀膜材料对紫外线具有较高的阻隔性能？（）

A.铝

B.镀

C.钛

D.银纳米粒子

14.在磁控溅射镀膜中，以下哪种现象会导致镀膜均匀性下降？（)

A.靶材溅射不均匀

B.基片温度不均匀

C.溅射气体分布不均匀

D.所有以上现象

15.以下哪种设备不属于物理气相沉积设备？（）

A.真空镀膜机

B.磁控溅射镀膜机

C.化学气相沉积设备

D.电子束蒸发镀膜机

16.在玻璃镀膜工艺中，以下哪种方法可以提高镀膜的附着力？（）

A.优化预处理工艺

B.降低镀膜速率

C.增加镀膜厚度

D.提高镀膜温度

17.以下哪个因素不会影响化学气相沉积镀膜的质量？（）

A.反应气体流量

B.基片温度

C.沉积速率

D.镀膜机外观

18.以下哪种材料常用于制备低辐射镀膜玻璃？（）

A.氧化硅

B.氧化钛

C.氧化锆

D.氧化锡

19.在溅射镀膜过程中，以下哪种方法可以提高溅射效率？（）

A.增加靶材与基片距离

B.降低工作气压

C.提高溅射功率

D.所有以上方法

20.以下哪种现象表明玻璃镀膜工艺中可能存在污染问题？（）

A.镀膜表面出现颗粒

B.镀膜表面出现裂纹

C.镀膜颜色不均匀

D.镀膜附着力下降

（以下为其他题型和答案部分，因题目要求仅输出上述内容，故不再继续编写。）

二、多选题（本题共20小题，每小题1.5分，共30分，在每小题给出的四个选项中，至少

有一项是符合题目要求的）

1.玻璃镀膜技术可以应用于以下哪些领域？（）

A.建筑玻璃

B.显示器屏幕

C.眼镜片

D.陶瓷制品

2.以下哪些因素会影响磁控溅射镀膜的质量？（）

A.靶材材质

B.溅射气体类型

C.基片温度

D.镀膜机的工作环境

3.真空蒸发镀膜与磁控溅射镀膜相比，以下哪些说法是正确的？（）

A.真空蒸发镀膜对基片材料的热影响较小

B.磁控溅射镀膜可以实现更均匀的镀膜

C.真空蒸发镀膜速率较快

D.磁控溅射镀膜对气体种类要求较高

4.以下哪些材料常用于玻璃镀膜以提高硬度和耐磨性？（）

A.硅

B.钛

C.铬

D.铝

5.以下哪些措施可以改善镀膜的耐