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多层介质膜滤光片的镀制

摘要：

本实验以蒸发真空镀膜机对滤光片镀膜，采用干涉原理对膜厚进行监控。使用单色仪把

光源透过滤光片并有反射镜反射回来到单色仪上的光，经由单色仪原理被分成不同的光束，

再由光电倍增管将光信号放大并转化为电信号。通过理论模拟和实际实验结果进行比较，分

析实验误差产生的原因。

关键词：干涉滤光片、高真空镀膜、光学极值法测膜厚、真空检验

引言：

当光线进入不同传递物质时（如由空气进入玻璃），大约有5%会被反射掉，在光学瞄

准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30%至40%。现代光学透镜

通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至1.5%，多层增透膜则

可让反射降低至0.25%，所以整个瞄准镜如果加以适当镀膜，光线透穿率可达95%。镀了单

层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色。

通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉

第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。

蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、

陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热使其中的物质蒸发。蒸发物质

的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发

源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常

采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸

气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子

平均动能约为0.1～0.2电子伏。

本实验通过蒸发真空镀膜设备对滤光片镀膜。

原理：

1、真空技术

“真空”是指气压低于一个大气压的气体状态。在真空状态下，单位体积中的气体分子

数大大减少，分子平均自由程增大，气体分子之间、气体分子与其他粒子之间的相互碰撞也

随之减少。这些特点被广泛应用于科学研究和生产的许多领域中，例如：电子器件、大规模

集成电路、加速器、表面物理、热核反应、空间环境模拟、真空冶炼和真空包装等。

真空泵是把被抽容器中的气体排放出从而降低容器内气压的机具。根据排气压强，真空

泵大致可分为三类。

第一类是往大气中排气的泵，这种泵一般称为粗抽泵或前级泵，它可以从大气压下开始

工作，可以单独使用或与其他需要在出口处维持一低气压的泵连用。旋转机泵、活塞式机械

泵等都属于这一类。第二类是只向低于大气压的环境中排气的泵。这类泵是在气体相当稀薄

时才能开始工作，并气体排除到已被前级泵抽成低真空的地方。这类泵称为高真空泵，如扩

散泵、分子泵等。第三类是可束缚住系统中的气体和蒸汽的泵，如吸附泵和低温泵等。

而在本实验中，我们可以通过机械泵和油扩散泵的配合使用达到高真空条件。但扩散泵

不能再大气下运行，因此在高真空泵能够工作之前，必须先用机械泵通过低真空阀门分别将

钟罩内和扩散泵中的大部分气体抽到大气中。扩散泵需要预热，待真空度合适后，将低真空

阀放在抽扩散泵一侧，然后慢慢打开高真空阀门。扩散泵和机械泵的组合可使钟罩内的压强

-3

降到大约7×10Pa

2、反射膜

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光线在单一分界面上的反射光线垂直入射到透明介质界面时，反射系数和反射率分

别为

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