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孟军霞等:Al掺杂ZnO薄膜的微结构及光学特性研究1317
Al掺杂ZnO薄膜的微结构及光学特性研究*
孟军霞,马书懿,陈海霞,陶亚明,侯丽莉,贾迎飞,尚小荣
(西北师范大学物理与电子工程学院,甘肃兰州730070)
摘要:采用射频磁控溅射方法在玻璃衬底上制备晶性能发生了比较明显的变化。
出不同Al掺杂量的ZnO(AZO)薄膜。利用X射线衍
2实验
射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和光致荧光发光
(PL)等系统研究了不同Al掺杂量对ZnO薄膜的结晶AZO薄膜是在JGP560BIV型超真空磁控溅射设
性能、表面形貌和光学特性等的影响。结果显示,随着备上采用射频磁控溅射法,在7105型玻璃衬底上制备
Al掺杂量的增加,薄膜的(002)衍射峰先增强后减弱,的。实验所用靶材为纯度优于99.99%Zn靶(直径
同时出现了(100)、(101)和(110)衍射峰,表明我们制60mm,厚度4mm),样品a、b、c、d表示Al的掺杂面积
备的AZO薄膜为多晶纤锌矿结构,适量的Al掺杂可分别为0、2.5%、5.0%和10.0%(扇形Al片的面积与
提高ZnO薄膜的结晶质量,然而AZO薄膜的表面平溅射靶的面积比),所对应的Al的掺杂浓度分别为0、
整、晶粒致密均匀。薄膜在紫外可见光范围的透过率0.90%、1.66%和3.78%(原子分数),靶与衬底距离
超过90%,同时随着Al掺杂量的增加,薄膜的光学带为50mm。O和Ar分别作为反应沉积过程中的反应
2
隙值先增大,后减小。这与采用量子限域模型对薄膜气体和溅射气体。制备前用去离子水、丙酮和酒精依
的光学带隙作出相应的理论计算所得结果的变化趋势次对纯度优于99.96%的自制Al片和玻璃衬底进行
完全一致。超声清洗15min,交替清洗3次,清洗完毕后用干燥的
-4
关键词:磁控溅射法;AZO薄膜;结构特性;光学特氮气吹干后迅速放入真空室,背景真空为210Pa,
性;量子限域工作压强为2Pa,O2和Ar流量分别为8和10mL/
中图分类号:O484.4;O484.5文献标识码:Amin,溅射功率为100W,沉积时间1h,衬底温度
文章编号:10019731(2010)08131704200。并进行400真空退火1h。样品的结构特性
用英国Bede公司制造的BedeD1多功能X射线衍射
1引言
仪(XRD;CuK=0.154056nm)进行表征;样品的表面
近年来,人们开始对ZnO薄膜,特别是Al掺杂氧形貌采用扫描电子显微镜(SEM)进行观察;薄膜的可
化锌(AZO)薄膜研究有了浓厚的兴趣。大部分文献报见光透射和吸收谱用紫外分光光度计(UV22550;330
道,用溶胶凝胶和射频磁控溅射等方法[1,2]可制备~800nm)测量;薄膜光致荧光光谱采用美国Perkin
AZO薄膜,且射频溅射法制备AZO
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