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《磁控溅射TiAlSiN硬质膜氧化性能研究》

一、引言

随着现代工业技术的不断发展，对材料表面性能的要求日益提高。TiAlSiN硬质膜作为一种具有优异性能的薄膜材料，被广泛应用于机械、电子、航空等众多领域。其中，磁控溅射技术是制备这种硬质膜的一种常用方法。本文着重研究了磁控溅射制备的TiAlSiN硬质膜的氧化性能，为该类材料在高温环境下的应用提供理论依据。

二、磁控溅射技术及其原理

磁控溅射技术是一种物理气相沉积技术，其原理是利用高能粒子轰击靶材，使靶材表面的原子或分子脱离并沉积在基材表面。在磁控溅射过程中，磁场的作用使得等离子体在靶材表面形成环状运动，提高了溅射速率和膜层的均匀性。

三、Ti