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《磁控溅射CrAlSiN硬质膜高温性能研究》

一、引言

随着现代工业技术的不断发展，对材料的高温性能要求越来越高。磁控溅射技术作为一种重要的薄膜制备技术，被广泛应用于制备各种功能性薄膜。其中，CrAlSiN硬质膜因其优异的硬度、耐磨性、耐腐蚀性和高温稳定性等特性，受到了广泛关注。本文将针对磁控溅射CrAlSiN硬质膜的高温性能进行深入研究，旨在探究其在高温环境下的性能表现和应用前景。

二、实验部分

（一）材料制备

采用磁控溅射技术制备CrAlSiN硬质膜。选用高纯度的Cr、Al、Si和N等元素作为靶材，通过调整各元素的溅射比例，控制膜层的成分和结构。在适当的溅射功率、气压和基底温度等工艺参数下