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《电子工业纯水站设计规范》(初稿)2007.10

1.总则2

2.术语3

3.纯水站房6

3.1.一般规定6

3.2.设备布置7

3.3.管道布置8

4.纯水制备工艺10

4.1.一般规定10

4.2.预处理12

4.3.脱盐及深度处理15

4.4.精处理（抛光）17

4.5.微粒、总有机碳、细菌、溶解氧和二氧化硅17

4.6.水箱、水泵及管道18

5.纯水输送19

5.1.一般规定19

5.2.管道设计19

5.3.管材与附件20

6.纯水回收和节水21

6.1.一般规定21

6.2.纯水回收21

6.3.节水措施22

7.药品贮存、计量和输送22

7.1.一般规定22

7.2.酸、碱及盐23

8.控制及仪表24

8.1.纯水制备过程测量与控制24

8.2.纯水站监控系统设计选型24

8.3.现场控制系统分区设计25

8.4.集中监控系统设计25

附录A水质全分析报告27

附录B离子交换器设计参数28

附录C电子级水质标准（ASTMD5127-1999）30

本规范用词说明31

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1.总则

1.0.1.为确保电子工业纯水站出水满足电子产品生产工艺要求，使设计做

到技术先进，经济合理，安全适用，制定本规范。

1.0.2.本规范适用用于新建、扩建和改建的电子工业纯水站工程设计。

1.0.3.设计应贯彻执行国家的技术经济政策，合理选择水源，节约能源，

节约水资源，节约用地，保护环境，改善劳动条件，提高经济效益。

1.0.4.水站设计应根据主体工程建设规划、生产特点等综合考虑，并经技

术经济比较，择优确定设计方案，当主体工程为分期建设时，应按最终

需用纯水容量（规模）全面规划、合理布局，考虑扩建条件。

1.0.5.设计应为施工安装，维护管理，检修、检（监）测和安全运行创造

必要的条件。

1.0.6.改建、扩建设计，应合理利用、改造原有设施。

1.0.7.纯水回收和节水设施必须与纯水站统筹规划，同时设计、同时施工、

同时投运。

1.0.8.纯水站排放的废水，应经处理达到国家和地方排放标准后排放。

1.0.9.电子工业纯水站工程设计，除应执行本规范的规定外，尚应符合国

家现行的有关标准、规范的规定。

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2.术语

2.0.1.电子工业纯水purewaterforelectronicalindustry

电子工业生产所需的纯化水的通称。随着电子器件从电子管、半导

体、集成电路直至超大规模集成电路的发展，制造工艺过程用水的水

质不断提高，水质指标主要为电解质（通常以电阻率表征）的也可称

为脱盐水（去离子水）；水质指标不但有电解质（通常以电阻率和对某

些离子含量指标共同表征）而且有非电解质(微粒、有机物、细菌、溶

解氧和二氧化硅等)指标的可称为电子级纯水。随着电子器件不断微细

化，水质指标不断提高又有高纯水、超纯水（UPW