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多晶硅题库

一、填空题

1、精馏塔内自下向上各块塔板上的温度逐板降低。

﹤0.1㎏液体/㎏干气体。

2.板式塔在正常操作过程中应使雾沫夹带量e

v

3.加料板将精馏塔分为两部分，加料板以下的部分称为提馏段。

4.在精馏操作中应严格维持全塔的总物料平衡，当进料量小于出

料量时会引起

塔釜蒸干。

5.为了使进入降液管内的液体有足够的时间释放气泡，必须保证

液体在降液管内

的停留时间大于3～5秒。

6.工业上常用的板式塔有泡罩塔筛板塔浮阀塔。

7.一般将精馏塔的加料板以上的部分称为精馏段。

8、当气体的流速过小时一部分液体从筛孔中漏下而降低了分离效

率的现象称为

（漏液）。

9、按塔内两相接触方式分，塔设备可分为板式塔和填料塔。

13.塔板漏夜是指当气体通过筛孔的速度较小时，一部分液体从筛

孔直接落下的

现象。

14.在填料塔中，气液两相的接触方式是逆流接触。

15.板式塔从整体看，两流体的流动方式是逆流。

16.塔板从结构上可分为有溢流和无溢流两种类型。

17.塔板的气液接触元件指使气体通过塔板时，将其均匀分散在液

层中进行传

质的气体分布装置。

18.硅有晶态和无定形两种同素异形体，

19.冶金级多晶硅纯度为90﹪-95﹪太阳能级多晶硅纯度一般高于

4N电子级多

晶硅纯度一般高于6N

20.目前使用最广泛的生产多晶硅的方法为改良西门子法

21.天然水中的杂质总体来说包括三部分悬浮物质，胶体物质，溶

解物质

22.去离子水电阻率(25℃)可达到10MΩ.CM超纯水电阻率(25℃)

可达到

18MΩ.CM。

23.阳离子树脂交换后的水显酸性，阴离子交换树脂交换后水显碱

性

24.离子交换树脂在使用一段时间后会逐渐“失效”，必须“再生”

后才能继续使

用。交换树脂的再生是将离子交换树脂再生液中浸泡15min以上，

阳离子交换树脂用5﹪HCl浸泡,阴离子交换树脂用5﹪NaOH浸泡

25.工业硅生产设备分为冶炼设备，电气设备，机械设备三大部分。

26.电解水生成氢气一般要在内部加入20﹪-30﹪的KOH

27.常用净化氢气的方法有钯合金扩散法，吸附干燥法，

28.合成三氯氢硅是在沸腾床中进行。

29.用氢还原多晶硅时温度要求比较严格为1080-1100℃

30.用氢还原多晶硅时反应主要发生在硅芯表面

31.用工业硅和氯化氢气体生成三氯氢硅时温度要求比较严格为

280-320℃

32.用工业硅和氯化氢气体生成三氯氢硅时反应温度超过350℃时

生成的主要产

物已经不是三氯氢硅而是四氯化硅

33.用工业硅和氯化氢气体生成三氯氢硅时反应温度低于280℃时

生成的主要产

物已经不是三氯氢硅而是二氯氢硅

名词解释

液化物质从气态变成液态的相变过程

汽化物质由液态转变成气态的相变过程

蒸发液态物质在任何温度下，从表面进行汽化的现象叫蒸发。

挥发度某一组分的挥发度可以定义为该组分在蒸汽相中的分压

与其在液相中平衡浓度之比

相对挥发度混合溶液中两个组分的挥发度之比，称为相对挥发

度。

全回流精馏塔塔顶上升蒸汽经冷凝后，冷凝液全部回流至塔内，

这种回流方式叫全回流

回流比精馏塔塔顶上升蒸汽经冷凝后，冷凝液部分回流至塔内，

部分作为产品，二者物质量之比。

理论板数气液两相皆充分混合而且传质和传热过程的阻力皆为

零的理论化塔板。

拉乌尔定律在某一温度下，稀溶液的蒸汽压等于溶剂的蒸汽压

乘以溶剂的摩尔分数。

道尔顿分压定律某一气体在气体混合物中产生的分压等于在相

同温度下它单独占有整个容器时产生的压力，而气体混合物的总压强

等于

其中气体分压之和。

精馏把液体混合物进行多次部分汽化，同时又把产生的蒸汽多

次进行部分冷凝，使混合物分离为所要求组分的操作过程称为精馏