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《氮含量对TiN、ZrN膜层晶体结构和性能的影响研究》
一、引言
近年来，由于硬质氮化物涂层如TiN（氮化钛）和ZrN（氮化锆）的优良物理性能，其在众多工业领域得到了广泛的应用。氮含量在TiN和ZrN的合成过程中扮演着至关重要的角色，其直接影响膜层的晶体结构及相应性能。本篇研究致力于探索氮含量对TiN、ZrN膜层晶体结构和性能的影响，以期为实际应用提供理论依据。
二、研究背景及意义
随着科技的发展，对材料性能的要求日益提高。TiN和ZrN因其高硬度、良好的化学稳定性和优异的耐磨性等特性，在切削工具、模具、轴承以及微电子器件等领域有着广泛的应用。而氮含量的变化对这两类材料的性能有着显著影响，因此
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