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两微米线宽TFT应用的数字光刻研究
两微米线宽
两微米线宽TFT应用的数字光刻研究
摘要
高分辨光刻技术无论是在半导体行业还是高端电子产品的制造行业都是至关重要的。基于DMD的数字光刻机可以实现掩模的实时产生，已在工业上蓬勃兴起，研究这种技术的光刻应用很有意义。本文首先介绍了光刻技术的背景、分类、以及国内外研究情况，接着详细介绍了光刻技术的原理和工艺流程。然后就数字光刻技术的背景、原理进行了介绍，在此基础上，介绍了本实验要用到的DMD数字光刻机以及其核心部件空间光调制器。随后提出了本文的研究方案，即通过无掩膜DMD数字光刻机进行两微米线宽的光刻。首先是用
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