《直流磁控溅射制备(Ti,Al)N薄膜相结构与划痕性能研究》.docxVIP

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《直流磁控溅射制备(Ti,Al)N薄膜相结构与划痕性能研究》

摘要：

本文采用直流磁控溅射技术制备了(Ti,Al)N薄膜，并对其相结构与划痕性能进行了深入研究。通过实验和理论分析，我们详细探讨了薄膜的制备过程、相结构演变及其对划痕性能的影响。研究结果表明，直流磁控溅射技术为制备高质量(Ti,Al)N薄膜提供了有效途径，并对其在硬质涂层领域的应用提供了重要参考。

一、引言

随着现代工业技术的不断发展，硬质涂层材料在机械、电子、航空航天等领域的应用日益广泛。其中，(Ti,Al)N薄膜因其高硬度、良好的耐磨性和化学稳定性，成为了一种重要的硬质涂层材料。直流磁控溅射技术因其成膜均匀、与基底结合力强等优

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