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公司研究2024.05.24

北方华创（002371）公司深度报告

半导体设备龙头，高端制程产品放量在即

方正证券研究所证券研究报告

分析师

半导体设备龙头，国产替代急先锋。北方华创成立于2001年9月，公司主

郑震湘登记编号：S1220523080004营半导体装备、真空与新能源锂电装备和精密元器件业务，在半导体设备方

面，公司主要产品包括刻蚀机、PVD、ALD、CVD、氧化/扩散炉、清洗机等高

李鲁靖登记编号：S1220523090002端半导体工艺装备及核心零部件。根据2024一季度报，总营收58.6亿元，

同比增长51.4%，归母净利润11.3亿元，同比增长90%。2023年公司新签

刘嘉元登记编号：S1220523080001

订单超过300亿元，其中集成电路领域占比超70%。

薄膜沉积设备：创新突破海外垄断，新品开启验证。预计全球半导体薄膜沉

强烈推荐(维持)

积设备市场规模在2025年将从2017年的125亿美元扩大至340亿美元，

公司信息保持年复合13.3%的增长速度。1）PVD（物理气相沉积）：应用材料基本垄

行业半导体设备断了PVD市场，占85%的比重。公司PVD产品为磁控溅射PVD，通过持续突

破包括溅射源设计等多个关键技术，公司建立了核心技术优势，代表了国产

最新收盘价(人民币/元)287

集成电路薄膜制备工艺设备的高水平。2）CVD（化学气相沉积）：在CVD市

总市值(亿)(元)1,523.80场中，应用材料、泛林半导体和东京电子占据了全球70%的市场份额。PECVD

52周最高/最低价(元)323.00/216.52（等离子体增强化学气相沉积）在化合物半导体领域中，已在各大主流厂商

实现了稳定的量产。HDPCVD（高密度等离子体化学气相沉积）能够在较低的

沉积温度下产生比PECVD设备更高的等离子体密度和质量，公司HDPCVD产

历史表现

品OrionProxima正式进入客户端验证。

8%

1%刻蚀设备：百亿美元市场，加速导入国产设备。全球刻蚀设备市场规模持续

-6%增长，预计2025年将增长至155亿美元，其中主要为等离子刻蚀的干法刻

蚀的占比超过90%。TSV（硅通孔技术）的技术核心包括刻蚀工艺，其市场

-13%

规模在2022-2026年期间的CAGR为16%。公司作为国产半导体刻蚀设备龙

-20%

头，加速实现国产替代，在硅刻蚀、金属刻蚀、介质刻蚀工艺的实现全覆盖，

-27%

23/5/2423/8/2323/11/2224/2/2124/5/22并持续进行产品与技术创新：1）迭代升级高深宽比TSV刻蚀设备，于2023

北方华创沪深300年销售突破百腔；2）发布首台国产晶边干法刻蚀设备，已在客户端实现量

数据来源：wind方正证券研究所产；3）推出去胶机，开拓刻蚀领域全新版图，已完成多家客户验证并实现

量产。我们