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摘要
面对目前时代的高速发展，常规的一些材料已经很难满足在各方面的需求，进而研究者将目光转向了非常规材
料——有机材料。
本文研究了不同修饰条件对于酞菁氧钒形貌的各种影响，并且通过绝缘层修饰，AFM图谱等对做出的实验进行了各方面的处理，旨为挖掘出适合修改和完善酞菁氧钒薄膜形貌的思路和方法，从而有利于该材料的进一步研究和发展。酞菁化合物一种具有良好的物理和化学性质的有机半导体材料，由于其良好的物理和化学性能，因此大部分酞菁类化合物被作为薄膜，覆盖层等使用，常见的有酞菁化合物有酞菁氧钒（VOPc）。除此之外，酞菁氧钒在其他领域的使用也十分频繁。在大量阅读了专业文
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