全球多晶硅产业发展历程及企业大全.pdfVIP

全球多晶硅产业发展回顾

（1）多晶硅研发中试期

高纯硅材料的研制工作自19世纪就已开始，早在19世纪60年代，人们就开始

尝试制备超纯硅。1822年，瑞典化学家Berzelius首先使用钾还原四氟化硅制

备出单质硅，但直到1951年，美国杜邦公司才使用类似的方法建设了全球首家

多晶硅提纯工厂，供美国的电子公司生产高频二极管，该方法也被称为杜邦法。

由于当时锌的纯度不易提升，生产的硅纯度不高，产品用途未能扩大。日本尝试

改进该生产工艺，生产出电阻率达到1000Ω/cm的多晶硅，以将其应用于高压

器件上，但是始终未获得成功。由于氢气更易于提纯和回收重复利用，其生产成

本也相对较低。1953年，贝尔实验室用氢替代锌来还原四氯化硅，并在钽丝上

沉积多晶硅，制备出P型电阻率达到1000Ω/cm的多晶硅，该方法也被称为

贝尔法。西门子公司是欧洲首家从事电子管研发的公司，为解决硅基整流管的原

料问题，也投入多晶硅提纯研发工作，于1955年成功研发出用氢气还原三氯氢

硅，在硅芯发热体上沉积硅的工艺技术，并于1957年建厂进行工业规模化生产，

此即为西门子法。1958年，西门子公司将该方法授权给德国Wacker公司使用，

德国Wacker公司的多晶硅产量也从1959年的530kg提升至1969年的60

吨。1956年，英国国际标准电气公司的标准电信实验所成功研究出通过硅烷热

分解制备多晶硅的方法，被称为硅烷法。1959年，日本的石冢研究所也同样成

功研究出该技术。美国和日本的一些多晶硅企业开始采用杜邦法或贝尔法建立多

晶硅工厂，如日本大阪钛、东海电极公司等。20世纪50年代初，国外多达16

家（美国4家、日本6家、欧洲6家）企业研究多晶硅的生产方法，产生了如

杜邦法、贝尔法、碘化法、皮齐尼法和硅烷法等制备多晶硅的方法。当时，由于

半导体产业刚刚兴起，市场规模不大，多晶硅企业也处于各自为战的状态，独立

进行研究和开发他们各自的多晶硅工艺。早期的企业主要是顾虑到自有的工艺技

术一旦被竞争对手获取，会导致自己在产品质量和生产成本竞争方面处于不利地

位，因此很多技术都处于独立开发状态。

（2）多晶硅工业化起步期

20世纪60年代早期，受制于锗在半导体领域的应用，硅材料市场有所波动，由

于杜邦法和贝尔法提炼的多晶硅纯度不高，部分多晶硅企业开始放弃杜邦法或贝

尔法，开始引入技术逐步成熟的西门子法，如日本信越化学公司开始从当时的联

邦德国引进西门子公司的三氯氢硅还原技术。在此带动下，日本的大阪钛、室素

电子公司等都开始改用三氯氢硅氢还原法，西门子法逐步奠定了其在硅工业的地

位。同时，日本窒素公司也开始将西门子技术输入到我国，在洛阳建立了年产能

3吨的多晶硅生产线。到20世纪60年代后期，由于锗材料做出的器件耐热性

差，工作不稳定，且锗是稀有材料，大批量生产困难，市场开始转向硅材料，原

有的生产商不能满足半导体行业对多晶硅需求数量更大、纯度更高以及成本更低

的要求，摩托罗拉、德州仪器、孟山都公司等一些半导体设备和电路制造商开始

自主生产多晶硅供企业使用。由于硅材料的应用范围从最初的整流器、二极管扩

大到可控硅、晶体硅、集成电路等，市场需求量扩大，多晶硅产量也由20世纪

50年代的百公斤量级提升至20世纪60年代的百吨量级。

（3）低成本多晶硅发展期

20世纪70年代，随着彩电、无线电收发两用机、台式电子计算机、电子表等消

费品走入市场，集成电路市场生产规模开始扩大，硅材料的市场需求也随之水涨

船高。因而更多的企业加入到硅材料生产领域，尤其是一些半导体企业为保障硅

材料供应，也纷纷涌入上游生产环节。据不完全统计，全球硅料生产企业多达上

百家。但全球多晶硅市场曾在1971年和1974年出现过两次萎缩，同时，受石

油危机的影响，能源价格暴涨，多晶硅企业生产成本大增，一些硅料厂亏损严重，

部分企业此后又逐步放弃了硅料生产业务。也正是由于石油危机的发生，美国开

始加大对地面光伏发电的支持力度，大力支持低成本的多晶硅生产技术开发，多

晶硅产业的发展开始掀起一波高潮。1978年～1985年间，美国能源局拨款8亿

美元用于研发生产多晶硅的低成本方法，喷气推进实验室负责该项目的实施工作。

一些企业比