《等离子炬焰熔法单晶生长炉温场设计研究》.docxVIP

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2025-01-04 发布于北京
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《等离子炬焰熔法单晶生长炉温场设计研究》

一、引言

随着科技的不断进步，单晶材料在电子、信息、能源等领域的应用日益广泛。等离子炬焰熔法作为一种重要的单晶生长技术，其关键在于温场设计。合理的温场设计不仅关系到单晶的生长质量，还直接影响到材料的性能和应用范围。因此，本文将重点研究等离子炬焰熔法单晶生长炉的温场设计，旨在为单晶生长技术的进一步发展提供理论支持和实践指导。

二、等离子炬焰熔法简介

等离子炬焰熔法是一种利用高温等离子体作为热源，通过控制热场环境来实现单晶生长的技术。其优点在于生长速度快、纯度高、晶粒尺寸可控等。然而，该方法在温场控制方面存在一定难度，因为高温环境下，温度梯度、均匀性、稳定