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光刻机行业研究报告

一、前言

（一）研究背景与目的

随着全球半导体产业的快速发展，光刻机作为半导体制造的核心设备，其技术水平直接关系到我国半导体产业链的自主可控能力。近年来，我国在光刻机领域取得了显著的成果，但与国际先进水平仍存在一定差距。在此背景下，本报告旨在全面梳理光刻机行业的发展现状、趋势、机遇与挑战，为我国光刻机产业的发展提供有益的参考。

光刻机是半导体制造过程中关键设备之一，主要用于将光刻胶上的图形转移到晶圆上。随着集成电路制造工艺的不断进步，光刻机技术也在不断更新。目前，光刻机技术已成为衡量一个国家半导体产业实力的重要指标。我国政府高度重视光刻机产业的发展，将其列为国家战略性新兴产

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