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光学薄膜
工艺参数与影响因素;;;;;;;光学薄膜工艺因素;;;;五.蒸发方法
不同蒸发方法提供给蒸发分子和原子的初始动能差异很大，导致膜层结构有较大差异，表现为折射率、散射、附着力有差异。
六.蒸发速率
速率是动能的又一表征，它对膜层的折射率、应力、附着力有明显影响。
七.真空度
对膜层聚集密度，化学成分有影响，从而使膜层的折射率、硬度，牢固性发生变化。
八.蒸气入射角
影响膜层的生长结构和聚集密度。对膜层的折射率和散射性能有较大影响。一般应限制在30°之内。
;基片温度;综合分析结果：;工艺因素优选
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