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《高功率脉冲放电阴极靶材溅射行为与薄膜沉积》
一、引言
高功率脉冲放电（HPPD）技术是近年来在材料科学、物理和工程领域中备受关注的一种技术。该技术通过高功率、高频率的脉冲放电，产生强烈的电场和磁场，从而实现各种材料的溅射、镀膜和制备。在众多的应用领域中，阴极靶材的溅射行为和薄膜沉积是重要的研究方向之一。本文将主要研究高功率脉冲放电下阴极靶材的溅射行为，以及其在高质量薄膜沉积方面的应用。
二、阴极靶材溅射行为
（一）基本原理
阴极靶材溅射是通过离子撞击，导致阴极靶材表面原子或团簇被喷射出来的过程。在高功率脉冲放电过程中，由于电场和磁场的相互作用，离子在阴极靶材表面形成高能离子束，从而引发靶材表
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