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长风破浪会有时,直挂云帆济沧海。——李白
镀膜的发展历史
························2025年,Fraunhofe在德国用浓硫酸
····················2025年以前有人用化学湿选法淀积了银镜膜它们
是最先在世界上制备的光学薄膜。后来,人们在化学溶液和蒸气中镀制各种光学薄膜。50年代,
除大快窗玻璃增透膜的一些应用外,化学溶液镀膜法逐步被真空镀膜取代。
真空蒸发和溅射这两种真空物理镀膜工艺,是迄今在工业撒谎能够制备光学薄膜的两种最主要的
工艺。它们大规模地应用,实际上是在1930年出现了油扩散泵机械泵抽气系统之后。
1935年,有人研制出真空蒸发淀积的单层减反射膜。但它的最先应用是1945年以后镀制在眼镜
片上。1938年,美国和欧洲研制出双层减反射膜,但到1949年才制造出优质的产品。1965年,
研制出宽带三层减反射系统。在反射膜方面,美国通用电气公司1937年制造出第一盏镀铝灯。
德国同年制成第一面医学上用的抗磨蚀硬铑膜。在滤光片方面,德国1939年试验淀积出金属—
介质薄膜FabryPerot型干涉滤光片。
在溅射镀膜领域,大约于1858年,英国和德国的研究者先后于实验室中发现了溅射现象。
该技术经历了缓慢的发展过程。1955年,Wehner提出高频溅射技术后,溅射镀膜发展迅速,成
为了一种重要的光学薄膜工艺。现有两极溅射、三极溅射、反应溅射、磁控溅射和双离子溅射等
淀积工艺。
自50年代以来,光学薄膜主要在镀膜工艺和计算机辅助设计两个方面发展迅速。在镀膜方
面,研究和应用了一系列离子基新技术。1953年,德国的Auwarter申请了用反应蒸发镀光学薄
膜的专利,并提出用离子化的气体增加化学反应性的建议。1964年,Mattox在前人研究工作的
基础上推出离子镀系统。那时的离子系统在10Pa压力和2KV的放电电压下工作,用于在金属上
镀耐磨和装饰等用途的镀层,不适合镀光学薄膜。后来,研究采用了高频离子镀在玻璃等绝缘材
料上淀积光学薄膜。70年代以来,研究和应用了离子辅助淀积、反应离子镀和等离子化学气相
等一系列新技术。它们由于使用了带能离子,而提供了充分的活化能,增加了表面的反应速度。
提高了吸附原子的迁移性,避免形成柱状显微结构,从而不同程度地改善了光学薄膜的性能,是
光学薄膜制造工艺的研究和发展方向。
老当益壮,宁移白首之心;穷且益坚,不坠青云之志。——唐·王勃
实际上,真空镀膜的发展历程要远远复杂的多。我们来看一个这个有两百年历史的科技历程:
19世纪
真空镀膜已有200年的历史。在19世纪可以说一直是处于探索和预研阶段。探索者的艰辛
在此期间得到充分体现。1805年,开始研究接触角与表面能的关系(Young)。1817年,透镜上形
成减反射膜(Fraunhofer)。1839年,开始研究电弧蒸发(Hare)。1852年,开始研究真空溅射镀膜
(Grove;Pulker)。1857年,在氮气中蒸发金属丝形成薄膜(Faraday;Conn)。1874年,报道制成等离
子体聚合物(Dewilde;Thenard)。1877年,薄膜的真空溅射沉积研究成功(Wright)。1880年,碳氢化
合物气相热解(Sawyer;Mann)。1887年,薄膜的真空蒸发(坩埚)(Nahrwold;Pohl;Pringsheim)。1896
年,开始研制形成减反射膜的化学工艺。1897年,研究成功四氯化钨的氢还原法(CVD);膜厚的
光学干涉测量法(Wiener)。
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