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光线追迹与分析
光线追迹是光学设计软件中的核心功能之一,它通过模拟光线在光学系统中的传播路径,帮助设计者分析和优化光学系统的性能。CodeV提供了强大的光线追迹功能,可以处理各种复杂的光学系统,从简单的透镜组到复杂的自由曲面系统。通过二次开发,设计者可以进一步定制光线追迹的流程和分析方法,以满足特定的设计需求。
光线追迹的基本概念
光线追迹的基本原理是从光源发出的光线,经过各个光学元件的反射、折射和衍射,最终到达探测器或像面。在每次光线与光学元件的相互作用中,都会根据几何光学或物理光学的原理计算光线的新路径和特性。
光线追迹的过程
定义光源:确定光源的类型、位置、方向和强度。
定义光学系统:包括透镜、反射镜、衍射元件等,以及它们的材料、形状和位置。
追迹光线:从光源发射光线,通过光学系统的各个元件,计算光线的路径和特性。
分析结果:根据追迹结果,分析光学系统的性能,如像差、光斑大小、光强分布等。
光线追迹的应用
像差分析:评估光学系统的像差,如球差、彗差、像散等。
光强分布:分析光学系统中的光强分布,确保光斑均匀。
杂散光分析:评估光学系统中的杂散光,减少不必要的光干扰。
优化设计:通过多次追迹和分析,优化光学系统的参数,提高性能。
CodeV中的光线追迹功能
CodeV提供了多种光线追迹模式,包括单光线追迹、光线集合追迹和蒙特卡洛光线追迹等。每种模式适用于不同的场景和需求。
单光线追迹
单光线追迹是最基本的光线追迹模式,通过追迹一条光线来评估光学系统的性能。这种方式简单快捷,适用于初步设计和调试。
代码示例
以下是一个单光线追迹的示例代码,定义一个简单的透镜组并追迹一条光线:
!定义透镜组
SURFACE1
RADIUS100
THICKNESS5
MATERIALBK7
SURFACE2
RADIUS-100
THICKNESS20
MATERIALAIR
SURFACE3
RADIUS100
THICKNESS5
MATERIALBK7
SURFACE4
RADIUS-100
THICKNESS100
MATERIALAIR
!定义光源
RAYS1
START000
DIRECTION001
INTENSITY1
!追迹光线
TRACE1
!显示结果
PRINTRAYS
光线集合追迹
光线集合追迹是追迹多条光线的模式,通常用于评估光学系统的整体性能。通过追迹多个光线,可以更准确地分析像差、光强分布等。
代码示例
以下是一个光线集合追迹的示例代码,定义一个简单的透镜组并追迹一个光线集合:
!定义透镜组
SURFACE1
RADIUS100
THICKNESS5
MATERIALBK7
SURFACE2
RADIUS-100
THICKNESS20
MATERIALAIR
SURFACE3
RADIUS100
THICKNESS5
MATERIALBK7
SURFACE4
RADIUS-100
THICKNESS100
MATERIALAIR
!定义光线集合
RAYS100
START000
DIRECTION001
INTENSITY1
FIELD00
WAVELENGTH0.55
!追迹光线集合
TRACERAYS
!显示结果
PRINTRAYS
蒙特卡洛光线追迹
蒙特卡洛光线追迹是一种统计方法,通过追迹大量随机光线来评估光学系统的性能。这种方法特别适用于处理复杂的光学系统和非均匀光源。
代码示例
以下是一个蒙特卡洛光线追迹的示例代码,定义一个简单的透镜组并追迹大量随机光线:
!定义透镜组
SURFACE1
RADIUS100
THICKNESS5
MATERIALBK7
SURFACE2
RADIUS-100
THICKNESS20
MATERIALAIR
SURFACE3
RADIUS100
THICKNESS5
MATERIALBK7
SURFACE4
RADIUS-100
THICKNESS100
MATERIALAIR
!定义蒙特卡洛光线
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