《LCD前制程简介》课件.pptVIP

*****************LCD简介平板显示技术LCD是一种平板显示技术，广泛应用于电视、电脑、手机等设备。液晶面板LCD利用液晶材料的特性，通过控制液晶分子的排列来实现图像显示。液晶材料液晶材料介于固体和液体之间，具有独特的光学性质。LCD的种类11.TN(扭曲向列型)TN是第一种LCD显示技术。价格低廉，但视角窄，对比度和响应速度较差。22.VA(垂直配向型)VA面板拥有比TN面板更广的视角和更高的对比度，响应时间也更快，价格也比TN面板贵。33.IPS(平面配向型)IPS面板拥有更加出色的色彩表现和更广的视角，但成本也更高。44.OLED(有机发光二极管)OLED面板是最新一代显示技术，拥有超高的对比度、更快的响应速度和更薄的厚度，但成本更高。LCD原理简介LCD是液晶显示屏的简称，其工作原理是利用液晶材料的光学特性来实现图像显示。液晶分子在电场的作用下会改变排列方向，从而影响光的偏振方向，最终实现图像的显示。LCD面板由两片玻璃基板构成，中间夹着液晶层，两片玻璃基板表面分别涂有偏光片、彩色滤光片和电极。LCD的发展历程早期发展LCD技术起源于1960年代，最初应用于手表和计算器等小型显示设备。快速发展20世纪70年代，LCD技术迅速发展，应用于电子游戏机和电脑显示器等电子设备。彩色LCD出现20世纪80年代，彩色LCD问世，并逐步替代了传统的CRT显示器。液晶电视普及20世纪90年代，LCD电视开始普及，取代了笨重的CRT电视机。现代发展21世纪，LCD技术不断创新，形成了包括TFT-LCD、IPS-LCD、VA-LCD等各种类型的LCD。LCD前制程概述生产过程LCD前制程是将玻璃基板制造成液晶面板的关键环节。关键步骤包括清洗、光刻、薄膜沉积、离子注入、蚀刻等工艺。质量控制严格控制每个步骤的质量，确保最终产品的性能和可靠性。LCD前制程流程1准备阶段清洗晶圆，准备开始生产。2光刻工艺使用紫外线曝光光刻胶，形成电路图形。3薄膜沉积利用溅射或等离子体技术，沉积多种薄膜。4蚀刻工艺使用化学或物理方法，蚀刻多余的薄膜，形成所需结构。前制程流程是LCD生产中关键步骤，包含清洗晶圆、光刻、薄膜沉积、蚀刻等环节。这些流程依次进行，每个步骤都至关重要，直接影响最终产品性能和良率。原料及晶圆清洗去污清洗过程去除晶圆表面的颗粒物、有机物和无机物等污染物，确保后续工艺的顺利进行。去离子用去离子水冲洗晶圆，去除残留的化学物质和杂质，确保晶圆表面清洁和均匀。干燥将清洗后的晶圆进行干燥，防止水分残留影响后续工艺，确保晶圆的表面清洁度和完整性。光刻工艺光刻机光刻工艺的核心设备是光刻机，用于将电路图案转移到晶圆上。光刻机通过紫外线光源将掩模上的图案照射到涂有光刻胶的晶圆上，形成电路图案。光刻胶光刻胶是一种对光敏感的材料，在光照射下发生化学反应，改变其溶解性。通过显影工艺，去除未曝光部分的感光胶，留下电路图案。薄膜沉积工艺11.溅射沉积溅射沉积是一种广泛使用的薄膜沉积技术。它利用等离子体中的离子轰击靶材，将靶材原子溅射到基板上，形成薄膜。22.化学气相沉积化学气相沉积利用化学反应在基板上沉积薄膜。气态反应物在基板上发生化学反应，生成固态薄膜。33.溶液沉积溶液沉积利用溶液中的物质在基板上沉积薄膜。例如，旋涂法和喷涂法。44.真空蒸镀真空蒸镀利用物质在真空中加热蒸发，然后在基板上冷凝，形成薄膜。离子注入工艺离子注入原理离子注入工艺是将特定能量的离子束轰击到硅片表面。这些离子会被硅片中的原子击退，并最终嵌入到硅片晶格中。离子注入工艺可以改变硅片的电气性质，例如电阻率和电荷载流子浓度。离子注入设备离子注入机由离子源、加速器、偏转磁场、扫描系统和真空系统组成。这些设备可以精确控制离子束的能量、剂量和扫描路径，从而实现对硅片进行精密的离子注入。蚀刻工艺材料去除蚀刻工艺利用化学或物理方法选择性去除基板上的材料，形成所需的图案。设备种类常见的蚀刻设备包括湿法蚀刻机和干法蚀刻机，分别使用液体化学品和等离子体进行蚀刻。工艺参数控制蚀刻工艺涉及多个参数，包括蚀刻时间、温度、气体流量等，需要严格控制以确保蚀刻质量。离心涂布工艺旋转涂布将光刻胶溶液均匀涂布到硅片表面，使用高速旋转形成均匀薄膜。精确控制严格控制涂布速度、旋转时间和温度等参数，确保光刻胶厚度和均匀性。薄膜形成离心涂布工艺形成的光刻胶薄膜，为后续的光刻工艺提供基底。显影及清洗工艺显影工艺显影工艺是将光刻后的光刻胶显影，露出未被紫外光照射的区域