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新型双硼吡咯吡啶肼腙荧光染料的设计合成、晶体结构及性质研究
摘要：
本文报道了一种新型双硼吡咯吡啶肼腙荧光染料的设计合成、晶体结构及性质研究。该染料具有优异的荧光性能和良好的溶解性，为荧光材料领域提供了新的研究方向。本文首先介绍了染料的分子设计思路，随后详细描述了其合成过程，并通过X射线单晶衍射技术对其晶体结构进行了分析。此外，本文还研究了该染料的物理性质和化学性质，包括光谱性质、热稳定性等。
一、引言
荧光染料在生物成像、光电器件、荧光探针等领域具有广泛的应用。近年来，随着科学技术的不断发展，对荧光染料的性能要求也越来越高。双硼吡咯吡啶肼腙类染料因其独特的分子结构和优异的荧光性能，成为当前研
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