DB3201_T 1063-2021 葡萄避雨栽培条件下“H”型整形及根域限制栽培技术规程.docx

ICS?65.020.20

CCS?B?31

3201

南 京 市 地 方 标 准

DB?3201/T?1063—2021

代替DB?3201/T?204-2012

葡萄避雨栽培条件下“H”型整形及根域限

制栽培技术规程

Technical?code?of?practice?for?the?rain-cut?grape?in?H-type?and?root?restriction

cultivation

2021?-?12?-?20?发布 2021?-?12?-?23?实施

南京市市场监督管理局 发?布

DB?3201/T?1063—2021

前 言

本文件按照GB/T?1.1—2020《标准化工作导则 第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定

起草。

本文件代替DB?3201/T?204-2012《葡萄避雨栽培条件下“H”型整形及根域限制栽培技术规程》，

与DB?3201/T?204-2012相比，除结构调整和编辑性改动外，主要技术变化如下：

——更改了规范性引用文件（当前版本见?2，先前版本见?2012?年版?2）；

——更改了品种（当前版本见?4.3，先前版本见?2012?年版?4.3）；

——删除了分角柱、边柱、支柱三种（见?5.2.1）；

——增加了包装技术内容（见?13）

——增加了贮藏技术内容（见?14）。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。

本文件由南京市农业农村局提出并归口。

本文件起草单位：南京市农业技术推广站、南京农业大学。

本文件主要起草人：刘学平、陶建敏、佘琳芳、程万强、高福新。

本文件及其所替代文件的历次版本发布情况为：

——2012?年首次发布为?DB?3201/T?204-2012；

——本次为第一次修订。

I

DB?3201/T?1063—2021

葡萄避雨栽培条件下“H”型整形及根域限制栽培技术规程

1 范围

本文件规定了葡萄水平棚架“H”型、避雨栽培和根域限制的术语和定义、建园、棚架构建、避雨

覆盖、土肥水管理、“H”型整形修剪、花果管理、病虫害防治、采收和贮藏等。

本文件适用于避雨栽培条件下根域限制栽培H型整形葡萄栽培，其他类似的栽培方式可参照执行。

2 规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，

仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本

文件。

GB/T?8321.10-2018 农药使用准则(十）

NY?469-2001 葡萄苗木

NY/T?496-2010 肥料合理使用准则?通则

NY/T?1998-2011 水果套袋技术规程?鲜食葡萄

NY/T?5010-2016 无公害农产品?种植业产地环境条件

3 术语和定义

下列术语和定义适用于本文件。

3.1

“H”型 H-type

水平棚架的一种树形,从地面单干直上,距棚面20?cm～30?cm处分成2个分叉,每分叉离中心干1?m～

1.5?m处各分2个主蔓,分叉与主蔓垂直,在4个主蔓上配备结果枝组,4个主蔓与2个分叉俯视呈H形。

3.2

避雨栽培 rain-cut

以避雨为目的，在葡萄植株树冠上方搭建遮雨棚，覆盖薄膜遮断雨水的一种栽培方法。

3.3

根域限制 root?restriction

将葡萄的根域限制在一定的空间内，控制其无序生长的栽培方式。

4 建园

4.1 园地选择

园地环境应符合NY/T?5010-2016?种植业产地环境条件。

4.2 园地规划设计

1

300?cm的坑穴。坑穴的容积为1.6?m?～4.5

300?cm的坑穴。坑穴的容积为1.6?m?～4.5?m?。在坑穴的四壁及底部铺垫2层微孔无纺布，内填含纯氮（N）

每667??m?栽12株。

园地面积较大时，根据园地条件、面积划分为若干作业小区，每个作业小区以长度100?m、宽度50?m

为宜，小区间留作业道，行向宜南北向，小区四周建防风林。

4.3 品种选择

鲜食葡萄品种

4.4 避雨棚选择

镀锌钢管连栋平棚架避雨大棚。

4.5 控根池建立

采用坑穴式或箱筐式进行根域限制。以砖、水泥砌成深40?cm～50?cm、长200?cm～300?cm、宽200?cm～

3 3

10?kg、磷（P2O5）10 kg、钾（K2O）15?kg的有机肥和营养土，掺入少量粗砂、碎秸秆。

4.6 栽植

4.6.1 苗木质量

苗木质量按NY?469-2001?规定执行。

4.6.2 定植时间

春季2月～3月份定植。

4.6.3 栽植密度

幼树采用株距4?m、行距5?m～6?m，成园后逐年间伐，最终采用株距10?m～14?m、行距5?m～6?m，

2

4.6.4 栽植方法

苗木地上部分剪留3个～4个饱满芽，用5°Bé的石硫合剂浸蘸3