TQGCML-等离子体化学气相沉积光纤预制棒制备设备.pdf

ICS33.180.99

CCSR17

团体标准

T/QGCMLXXXX—2023

等离子体化学气相沉积光纤预制棒

制备设备

PlasmaChemicalvapordepositionfiber-opticprefabricationfacility

（征求意见稿）

2023-XX-XX发布2023-XX-XX实施

全国城市工业品贸易中心联合会发布

T/QGCMLXXXX—2023

目次

前言II

1范围1

2规范性引用文件1

3术语和定义1

4设备构成及原理1

5要求2

6系统检验3

I

T/QGCMLXXXX—2023

前言

本文件按照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定

起草。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。

本文件由全国城市工业品贸易中心联合会提出并归口。

本文件起草单位：

本文件主要起草人：

II

T/QGCMLXXXX—2023

等离子体化学气相沉积光纤预制棒

制备设备

1范围

本文件规定了等离子体化学气相沉积光纤预制棒制备设备的术语和定义、设备构成、要求、现场调

试。

本文件适用于等离子体化学气相沉积光纤预制棒制备设备的生产与检验。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，

仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本

文件。

GB5226.1机械电气安全机械电气设备第1部分:通用技术条件

GB/T15706机械安全设计通则风险评估与风险减小

3术语和定义

下列术语和定义适用于本文件。

3.1

等离子体化学气相沉积光纤预制棒制备设备PlasmaChemicalvapordepositionfiber-optic

prefabricationfacility

是用微波低压等离子体进行化学气相沉积的方法制造光纤预制棒的设备。

4设备构成及原理

4.1设备构成

设备构成符合图1，设备构成主要包含以下部分：

——PCVD沉积床；

——PCVD流量柜；

——自动控制与保护系统；

——PCVD熔缩床；

——石墨炉系统；

——预热炉；

——真空系统。