先进光刻曝光系统对聚焦控制性能的影响机制与优化策略研究.docx

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的时代，半导体产业作为信息技术的核心支撑，其重要性不言而喻。而光刻技术作为半导体芯片制造的关键核心技术，一直是推动集成电路（IC）技术进步的强大动力。自20世纪50年代光刻技术诞生以来，历经多次重大变革，从最初的接触式光刻逐步发展到如今高精度、高分辨率的非接触式光刻，每一次的技术突破都显著提升了芯片的集成度和性能，使得电子产品不断向小型化、高性能化方向迈进。

随着集成电路集成度的持续提高，对光刻技术的要求愈发严苛。光刻技术的核心任务是将掩模版上的电路图形精确地转移到硅片上，而这一过程中，聚焦控制性能起着决定性的作用。在光刻过程中，若