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基于机器学习的离子注入分布预测研究.pdf

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    基于机器学习的离子注入分布预测研究摘要

    摘要

    离子注入模拟技术是一种关键的半导体工艺模拟方法，其在半导体制造和器件

    加工领域发挥着至关重要的作用。传统的离子注入模拟技术主要采用两体碰撞近似

    （BCA）方法和分子动力学（MD）方法，然而这两种传统方法存在计算量大、运行时

    间长等问题。为优化离子注入模拟技术，提高模拟计算效率，本文提出了利用机器学

    习预测离子注入分布的方法。本文主要研究内容包括：

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