先进光刻曝光系统对聚焦控制性能的影响机制与优化策略研究.docx

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今数字化时代，集成电路作为现代电子设备的核心，广泛应用于计算机、通信、消费电子等各个领域，其性能的优劣直接决定了相关设备的功能和竞争力。而先进光刻技术作为集成电路制造的核心技术，在整个芯片制造过程中占据着举足轻重的地位。从芯片制造流程来看，光刻工艺是将掩模版上的集成电路图案精确转移到硅片表面光刻胶上的关键步骤，是构建芯片微观结构的基础，几乎占用了整个晶圆制造时间的40%-50%，并且费用约占芯片生产成本的三分之一。随着芯片技术的不断发展，对于先进光刻技术的精度和效率要求也在持续攀升。

光刻技术的发展历程，是一部不断突破光学成像分辨率极限的奋斗史。自2