2025年半导体器件制造过程中的性能测试考核试卷 .pdfVIP

不飞则已，一飞冲天；不鸣则已，一鸣惊人。——《韩非子》

半导体器件制造过程中的性能测试考核试

卷

考生姓名：__________答题日期：_______年__月__日得分：_________判卷人：_________

一、单项选择题（本题共20小题，每小题1分，共20分，在每小题给出的四个选项中，只

有一项是符合题目要求的）

1.半导体材料中，哪一种材料主要用于制造PN结二极管？（）

A.硅B.锗C.砷化镓D.硒

2.下列哪一项不属于半导体器件的基本类型？（）

A.二极管B.三极管C.场效应晶体管D.集成电路

3.在半导体器件制造过程中，以下哪种工艺主要用于去除表面的杂质？（）

A.清洗B.氧化C.蚀刻D.光刻

4.在MOSFET制造过程中，哪一步骤用于形成源漏区？（）

A.光刻B.离子注入C.化学气相沉积D.磨片

5.以下哪种测试方法用于评估半导体器件的漏电特性？（）

A.IV曲线测试B.CV曲线测试C.CL曲线测试D.RT曲线测试

6.在半导体器件制造过程中，以下哪个参数直接影响器件的开关速度？（）

A.肖特基势垒B.通道长度C.介电常数D.阈值电压

7.以下哪种材料常用于半导体器件的绝缘层？（）

A.硅B.氧化硅C.硅化物D.砷化镓

8.在半导体器件性能测试中，以下哪个参数用于描述载流子迁移率？（）

A.电流B.电压C.电导率D.载流子浓度

9.以下哪种测试方法用于评估半导体器件的热稳定性？（）

A.电荷泵测试B.热载流子注入测试C.耐压测试D.热循环测试

10.在MOSFET制造过程中，以下哪个步骤用于形成栅氧化层？（）

A.光刻B.离子注入C.化学气相沉积D.热氧化

11.以下哪种材料常用于半导体器件的导电层？（）

A.多晶硅B.氮化硅C.氧化硅D.砷化镓

12.在半导体器件性能测试中，以下哪个参数用于描述器件的阈值电压？（）

A.电流B.电压C.阻抗D.位移电流

13.以下哪种测试方法用于评估半导体器件的可靠性和寿命？（）

A.IV曲线测试B.CV曲线测试C.耐压测试D.老化测试

14.在半导体器件制造过程中，以下哪个步骤主要用于去除光刻胶？（)

A.清洗B.氧化C.蚀刻D.光刻

15.以下哪种材料常用于半导体器件的钝化层？（）

A.硅B.氧化硅C.硅化物D.硼化物

16.在半导体器件性能测试中，以下哪个参数用于描述器件的亚阈值摆幅？（）

A.电流B.电压C.电导率D.亚阈值斜率

17.以下哪种测试方法用于评估半导体器件的ESD保护性能？（）

A.静电放电测试