光刻机照明系统中非常规光学元件加工制造技术的深度剖析与创新研究.docx

光刻机照明系统中非常规光学元件加工制造技术的深度剖析与创新研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的浪潮中，半导体产业作为信息技术的核心与基石，已然成为推动全球经济增长和科技创新的关键力量。而在半导体芯片制造的复杂工艺流程里，光刻技术占据着核心地位，是实现芯片微小化、高性能化的关键技术。作为光刻技术的核心装备，光刻机的性能直接决定了芯片的制造精度和生产效率。在光刻机的诸多组成部分中，照明系统又起着至关重要的作用，它的性能优劣对光刻质量有着决定性影响。

光刻机照明系统的主要功能是为光刻过程提供稳定、均匀且符合特定要求的光照。光源发出的光，需经过照明系统的一系列处理，包括扩束、匀