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磁控溅射制备ZnS薄膜及其性能优化研究

目录

磁控溅射制备ZnS薄膜及其性能优化研究（1）．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

内容概览．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

1.1研究背景．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

1.2研究目的与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5

1.3国内外研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5

磁控溅射技术原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6

2.1磁控溅射技术概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7

2.2磁控溅射原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7

2.3磁控溅射设备结构．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8

ZnS薄膜的制备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8

3.1薄膜制备工艺．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9

3.2材料选择与预处理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10

3.3溅射参数优化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10

ZnS薄膜的结构与形貌分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11

4.1X射线衍射分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12

4.2扫描电子显微镜分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12

4.3能量色散光谱分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13

ZnS薄膜的物理性能研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13

5.1电阻率测量．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14

5.2硬度测试．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．15

5.3透光率测量．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．15

ZnS薄膜的化学性能研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16

6.1化学稳定性测试．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17

6.2氧化还原性能测试．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17

6.3腐蚀性能测试．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18

ZnS薄膜的性能优化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．19

7.1溅射参数对薄膜性能的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20

7.2添加剂对薄膜性能的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20

7.3表面处理对薄膜性能的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．21

实验结果与分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22

8.1薄膜结构形貌分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22

8.2薄膜物理性能分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23

8.3薄膜化学性能分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24

磁控溅射制备ZnS薄膜及其性能优化研究（2）．．．．．．．．．．．．．．．．．．24

内容综述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24

1.1研究背景．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25

1.2研究意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26

1.3国内外研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．