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;;01;课程导入;02;涂胶设备是光刻工艺中不可或缺的一环。涂胶设备的基本结构设计精巧，功能强大，旨在确保光刻胶层均匀、一致地涂布在硅片表面。这台设备通常包含旋转机构、涂胶系统、控制系统等核心组件。;涂胶设备在半导体制造中扮演着至关重要的角色，它的性能直接影响到光刻工艺的精度和效率。因此，涂胶设备的设计、制造和维护都需要高度的专业知识和技术。随着半导体技术的不断发展，涂胶设备也在不断更新换代，以满足更高的工艺要求和市场需求。;03;曝光设备，又称为光刻机，是半导体芯片生产流程中最为复杂、最关键的工艺设备之一。它集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别等多项顶尖技术，具有极高的技术含量。光刻机采用类似照片冲印的技术，通过特定波长的光线（如紫外光、深紫外光、极紫外光等）透过掩模照射在涂有光刻胶的硅片表面，将掩模上的精细图形转移到硅片上。;由图可看出，UV光经滤光反射镜、复眼透射镜、曲面镜反射后，形成很均匀的光强照射到工作台面上。;版框定位结构如下：
滑道是由两排耐磨性能好的滚轮（由聚酯材料制成）组成。版框在安装过程中通过滑道进入，以减少磨损。
在X、Y方向上配置有三个千分尺以精细调整版框位置。
在千分尺对应方向上配置有三个推进气缸。
在版框安装台面两边都配有气槽，其作用是在对位动作时，气缸产生正压气流，使台与框之间产生气垫，以便调整，在固定动作时，气槽接近真空系统，使框与台面吸附，增强定位作用。
在版框四角位置各配备一个由气缸作用的固定爪，在定位后固定爪可将版框牢固地压住。玻璃的定位结构如图所示;;04;光刻使用的主要材料包括：ITO玻璃、光刻胶、浓盐酸、浓硝酸、氢氧化钠。
光刻胶，作为光刻工艺中的核心材料，是一种对光敏感的聚合物材料。它能够在特定波长的光照下发生化学反应，使得曝光区域的性质（如溶解度）发生显著变化。;;谢谢观看
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