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;;01;课程导入;02;涂胶工序是光刻的首道工序，它是在ITO玻璃表面上涂一层光刻胶，涂胶效果控制的好坏直接影响光刻质量，它主要控制的内容为光刻胶准备、涂层厚度及均匀性、涂层表面状态等。;;曝光就是在涂好光刻胶的玻璃表面覆盖掩膜版，通过紫外光进行选择性照射，使受光部的光刻胶发生化学反应，改变了这部分胶膜在显影液中的溶解度。显影后，光刻胶膜显现出与掩膜版相对应的图形。;显影就是将感光部分的光刻胶溶除，留下未感光部分的胶膜从而显示所需要的图形。显影过程是将曝光后的玻璃放入显影槽中，显影液通过摇摆的喷头喷洒在玻璃的光刻胶面上，过一定时间显出图形后，玻璃再通过水洗，将显影液冲掉。;;;去胶又称剥离，就是把刻蚀后玻璃上剩余的光刻胶去掉，清洗是冲洗干净玻璃表面的残胶、杂质等。去胶液是用碱液配制而成的，它的碱浓度要高于显影液浓度。去胶是在定温度条件下，用碱液冲洗并用滚刷擦洗玻璃以保证将玻璃上的残胶去除净。清洗是用高纯水冲洗玻璃上残留的碱液同时冲洗残胶。;03;装篮;;谢谢观看
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