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TC4钛网表面高吸收微弧氧化膜层的制备及其界面蒸发性能研究
目录
TC4钛网表面高吸收微弧氧化膜层的制备及其界面蒸发性能研究（1）
内容概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．3
TC4钛网概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．3
高吸收微弧氧化膜层的基本原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4
研究目标与重要性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5
文献综述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6
实验材料与方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8
试验设备与仪器．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9
实验步骤与流程．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10
微弧氧化工艺参数优化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10
膜层结构表征技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11
表面形貌分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12
化学成分分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13
力学性能测试．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14
氧化膜的界面蒸发性能研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．15
结果与讨论．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16
数据处理与结果分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16
对比实验与结论．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17
制备过程中存在的问题及改进措施．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．19
本研究的创新点与展望．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20
总结与建议．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22
TC4钛网表面高吸收微弧氧化膜层的制备及其界面蒸发性能研究（2）
一、内容描述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23
研究背景与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23
1.1钛网的应用现状及挑战．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25
1.2高吸收微弧氧化膜层的重要性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26
1.3界面蒸发性能研究的意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26
研究目的与任务．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27
2.1制备高性能的TC4钛网表面微弧氧化膜层．．．．．．．．．．．．．．．．．．．28
2.2研究膜层的界面蒸发性能及其影响因素．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．29
二、TC4钛网的特性及表面处理技术概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．30
TC4钛网的物理与化学性质．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．31
1.1TC4钛网的组成与结构特点．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．32
1.2TC4钛网的化学稳定性与耐腐蚀性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．33
表面处理技术简介．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．34
2.1物理法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．36
2.2化学法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．37
2.3微弧氧化技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．38
三、高吸收微弧氧化膜层的制备工艺研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．40
制备原理及设备介绍．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4
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