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半导体器件的清洗与表面处理考核试卷.docx

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半导体器件的清洗与表面处理考核试卷

考生姓名：答题日期：得分：判卷人：

本次考核旨在检验考生对半导体器件清洗与表面处理技术的掌握程度，包括清洗原理、清洗剂选择、表面处理方法以及实际操作技能等，以评估考生在半导体器件制造过程中的专业知识与技能水平。

一、单项选择题（本题共30小题，每小题0.5分，共15分，在每小题给出的四个选项中，只有一项是符合题目要求的）

1.半导体器件清洗过程中，常用的表面活性剂是：（）

A.烷基苯磺酸钠

B.聚乙二醇

C.氢氧化钠

D.硫酸

2.清洗半导体器件时，防止颗粒污染的关键操作是：（）

A.清

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