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投资逻辑
核心观点:CVD硅碳工艺的出现大幅提速硅负极的产业化,25年硅负极预计在手机领域扩大渗透,也有望在动力场景
实现0-1,我们建议关注硅负极放量背景下,新工艺带来的产业链增量环节投资机会。
CVD法硅碳成新主流工艺,加速硅负极产业化,重塑竞争格局。1)球磨法向CVD法迭代:在硅的纳米化工艺上,CVD
法能将硅径粒精确控制在10nm以内,并实现均匀包覆,取代球磨法成为新一代主流工艺;2)CVD硅碳相比硅氧优势
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