薄膜干涉课件.pptVIP

一、劈形膜SM劈尖角

明紋暗紋干涉條件為

1在劈形膜棱邊處,e=0因而形成暗紋。2相鄰兩條明紋(或暗紋)在劈形膜表面的距離。L討論

3、干涉條紋的移動每一條紋對應劈尖內的一個厚度，當此厚度位置改變時，對應的條紋隨之移動。

空氣的折射率1）用劈形膜干涉測量薄片厚度應用：

2)比較兩個塊規空氣的折射率AS

3）檢驗光學元件表面的平整度

二、牛頓環牛頓環干涉圖樣顯微鏡SLM半透半反鏡T

光程差明紋暗紋Rre暗環半徑明環半徑

1)利用牛頓環檢查透鏡品質應用：LG樣板待測凸透鏡光圈的圈數越多，說明透鏡與樣板的差異越大；光圈的圈數越少，說明透鏡與樣板的差異越小。2）在實驗室中，常用牛頓環測定光波的波長或凸透鏡的曲率。

三、單層增透膜由於反射光干涉相消，所以透射光增強，這樣的膜稱為單層增透膜。光程差為

例10-1在半導體元件生產中，為了測定矽片上SiO2薄膜的厚度，將該膜的一端腐蝕成劈尖狀，如圖所示。已知SiO2的折射率n=1.46，用波長的鈉光照射後，觀察到SiO2劈尖上出現9道暗紋,且第9道在劈尖斜坡的上端點M，矽的折射率為3.42。試求SiO2薄膜的厚度。M已知：求：

解：由於在SiO2上、下表面反射的光均是從光疏介質入射到光密介質，都有半波損失，所以光程差為：出現暗紋的條件為：(k=0,1,2,…)當k=0時，對應第一條暗紋第9條暗紋，對應於k=8，代入上式得：