金属掺杂氧化锌薄膜：制备工艺、特性分析与应用前景的深度探究.docx

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2025-05-09 发布于上海
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金属掺杂氧化锌薄膜：制备工艺、特性分析与应用前景的深度探究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代材料科学的广阔领域中，氧化锌（ZnO）薄膜作为一种极具潜力的宽带隙半导体材料，凭借其独特的物理性质和多样的应用前景，吸引了众多科研人员的目光，成为研究的焦点之一。

氧化锌薄膜具有一系列优异的基本特性。从晶体结构来看，它属于六方纤锌矿结构，这种结构赋予了其独特的物理性质。其常温禁带宽度约为3.37eV，这一数值使其在光电领域展现出独特的优势。较大的禁带宽度使得氧化锌薄膜对可见光具有较高的透过率，可高达90%，是一种理想的透明导电膜，同时其电阻率低至10-4Ω?cm，良好的透明导电性使其非