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纳米材料的测试与表征;前言;纳米材料分析的特点;纳米材料分析的意义;纳米材料的成份分析;成分分析的重要性;图1不同结构的CdSe1-XTeX量子点的结构和光谱性质示意图

1核壳结构的CdTe-CdSe量子点

2核壳结构的CdSe-CdTe量子点

3均相结构的CdSe1-XTeX量子点

4梯度结构的CdSe1-XTeX量子点

上述四种量子点的平均直径为5.9nm组成为CdSe0.6Te0.4;成分分析类型和范围;纳米材料成份分析种类;体相成分分析方法;原子吸收分析特点;电感耦合等离子体发射光谱法ICP;电感耦合等离子体质谱法;X-射线荧光光谱分析法;表面与微区成份分析;电子探针分析方法;电镜-能谱分析方法;纳米成份分析案例;纳米粒子ICP-MS直接测定;纳米材料的粒度分析;粒度分析的概念;粒度分析的种类和适用范围;光散射法(LightScattering);光散射粒度测试方法的特点;激光相干光谱粒度分析法;电镜法粒度分析;适合电镜法粒度分析的仪器主要有扫描电镜和透射电镜。普通扫描电镜的颗粒分辨率一般在6nm左右，场发射扫描电镜的分辨率可以达到0.5nm。

扫描电镜对纳米粉体样品可以进行溶液分散法制样，也可以直接进行干粉制样。对样品制备的要求比较低，但由于电镜对样品有求有一定的导电性能，因此，对于非导电性样品需要进行表面蒸镀导电层如表面蒸金，蒸碳等。一般颗粒在10纳米以下的样品比较不能蒸金，因为金颗粒的大小在8纳米左右，会产生干扰的，应采取蒸碳方式。

扫描电镜有很大的扫描范围，原则上从1nm到mm量级均可以用扫描电镜进行粒度分析。而对于透射电镜，由于需要电子束透过样品，因此，适用的粒度分析范围在1-300nm之间。

对于电镜法粒度分析还可以和电镜的其他技术连用，可以实现对颗粒成份和晶体结构的测定，这是其他粒度分析法不能实现的。;粒度分析应用;光催化剂的分散状态;水解聚丙烯酰胺溶液的粒度分布图;纳米材料的结构分析;X射线衍射结构分析;样品制备;X射线衍射分析;晶粒大小的测定原理;?是入射X射线的波长

?是衍射hkl的布拉格角

?hkl是衍射hkl的半峰宽，单位为弧度。

使用Scherror公式测定晶粒度大小的适用范围是5nm?300nm。;小角X射线衍射测定介孔结构;多层膜的研究;物质状态的鉴别;纳米材料研究中的XRD分析;纳米TiN/AlN薄膜样品的XRD谱;介孔结构测定;单层分散研究;激光拉曼物相分析;拉曼活性;Raman光谱可获得的信息;晶粒度影响;金属丝网负载薄膜光催化剂;薄膜晶粒尺度研究;电子衍射分析;电子衍射特点;电子衍射原理;电子衍射原理;电子衍射的标定;2025/5/11;2025/5/11;2025/5/11;纳米线已经形成

在受到电子束照射时发生变形

电子衍射花样为规律性的斑点;纳米材料的形貌分析;形貌分析的主要内容是分析材料的几何形貌，材料的颗粒度，及颗粒度的分布以及形貌微区的成份和物相结构等方面；

纳米材料常用的形貌分析方法主要有：扫描电子显微镜、透射电子显微镜、扫描隧道显微镜和原子力显微镜。;SEM形貌分析;TEM形貌分析;STMAFM形貌分析;电子束和固体样品表面作用;SEM形貌像信息;扫描电镜的特点;高分辨TEM;高分辨显微像;高分辨像;A:非晶态合金

B:热处理后微晶的晶格条纹像

C:微晶的电子衍射

明亮部位为非晶

暗的部位为微晶;2025/5/11;二维晶格像（单胞尺度的像）

能观察到单胞的二维晶格像，但不含原子尺度的信息，称为晶格像。

二维结构像（原子尺度的像；晶体结构像）

像中含有单胞内原子排列的信息;2025/5/11;

A:β氮化硅的结构像

B:α氮化硅的结构像

C,e：β氮化硅的模拟像和原子排列

D,f：α氮化硅的结构像模拟像和原子排列

;形貌分析应用;(a)38%

;介孔结构研究;高分子纳米管;无机－有机复合;高分子纳米球的合成;纳米球的微观结构;扫描探针显微镜;SPM的特点;STM原理遂穿过程;电子结构和STM像;STM图像的解释;原子力显微镜AFM;原子操纵;STM像;石墨的AFM;电迁移过程中的表面扩散;纳米材料的表面与界面分析;TheEND;此课件下载可自行编辑修改，此课件供参考！

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