微弧氧化陶瓷层通用规范.docxVIP

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FORMTEXT微弧氧化陶瓷膜通用规范

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FORMTEXTXXXX-FORMTEXTXX-FORMTEXTXX发布

FORMTEXTXXXX-FORMTEXTXX-FORMTEXTXX实施

FORMTEXT中国表面工程协会??发布

STYLEREF标准文件_文件编号T/XXXXXXX—XXXX

STYLEREF标准文件_文件编号T/XXXXXXX—XXXX

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目次

TOC\o1-1\h1范围 1

2规范性引用文件 1

3术语和定义 1

4要求 1

5质量保证规定 2

6交货准备 5

7说明事项 5

附录A（规范性）微弧氧化膜样板制作要求 7

微弧氧化陶瓷膜通用规范

范围

本文件规定了铝及铝合金、镁及镁合金、钛及钛合金微弧氧化陶瓷膜层的质量要求、验收规则和检验方法等。

本文件适用于铝及铝合金、镁及镁合金、钛及钛合金零部件微弧氧化陶瓷膜层的质量验收。

规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。

GB/T1410-2006材料体积电阻率和表面电阻率试验方法

GB/T4340.1金属维氏硬度试验第1部分：试验方法

GB/T4957非磁性基体金属上非导电覆盖层覆盖层厚度测量涡流法

GB/T6062-2009产品几何技术规范(GPS)表面结构轮廓法接触(触针)式仪器的标称特性

GB/T6461金属基体上金属和其他无机覆盖层经腐蚀试验后的试样和试样的评级

GB/T6462金属和氧化物覆盖层厚度测量显微镜法

GB/T8642热喷涂抗拉结合强度的测定

GB/T9286-2021色漆和清漆划格试验

GB/T12611金属零（部）件镀覆前质量控制技术要求

GJB179A-1996计数抽样检验程序及表

GJB150.1A军用装备实验室环境试验方法第1部分：通用要求

GJB150.9A军用设备环境试验方法湿热试验

GJB150.10A军用设备环境试验方法霉菌试验

GJB150.11A军用设备环境试验方法盐雾试验

GJB2502.3-2015航天器热控涂层试验方法第3部分:发射率测试

HB5057-1993铝及铝合金硬质阳极氧化膜层质量检验

术语和定义

本文件没有需要界定的术语和定义。

要求

外观

微弧氧化膜层应连续均匀，不应有露白、麻点、起泡、裂纹、电击伤等缺陷。

微弧氧化膜允许有轻微的挂具印痕和轻微的封闭液流痕。

微弧氧化膜允许因基体化学成分、膜层厚度、工艺参数的不同而呈现不同颜色。

除非另有规定，局部微弧氧化的零件膜层交接处允许向任意方向位移2mm。

除非另有规定，孔径不大于6mm的盲孔，在其深度大于孔径的1倍处的内表面可无膜层；孔径大于6mm的盲孔（或槽缝），在其深度大于孔径（或宽度）的2倍处的内表面可无膜层。

厚度

厚度应符合零件图样或技术文件的规定。产品图样未作规定时，如用于提高电泳漆与基体结合力的，膜层厚度应为4~10μm；如用于喷漆底层提高与基体的结合力，膜层厚度应不低于5μm；用于提高基材的耐腐蚀性能，膜层厚度应不低于10μm；用于提高膜层的耐磨性能，膜层的厚度应不低于30μm。

附着力

按照4.5.3规定的方法试验后，试验结果应满足1级以上。

按照4.5.3规定的方法试验后，微弧氧化膜层的结合强度应不小于30MPa。

硬度

硬度应符合零件图样或技术文件的规定。如无特殊要求，按照4.5.4规定的方法试验后，镁合金微弧氧化本色膜层的硬度应不小于500HV0.02；镁合金微弧氧化黑色膜层的硬度应不小于200HV0.02；铝合金微弧氧化本色膜层的硬度应不小于800HV0.05；铝合金微弧氧化黑色膜层的硬度应不小于500HV0.02；钛合金微弧氧化本色膜层的硬度应不小于500HV0.