基于化学气相沉积法（CVD）石墨烯薄膜评价指南.pdf

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团体标准

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基千铜衬底化学气扂罗积法(CVD)石墨

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Evaluationguideliney~r_,,CVJJGraphenefilmonCoppersubstrates]

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T/CSTMXXXXX—2024

前言

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［本文件按照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规

定起草。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。

本文件由中国材料与试验标准化委员会基础与共性技术标准化领域委员会(CSTM/FCOO)提出。

本文件由中国材料与试验标准化委员会基础与共性技术标准化领域委员会(?:

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T/CSTMXXXXX-2024

基千铜衬底化学气相沉积法(CVD)石墨

烯薄膜评价指南

1范围

［本文件规定了CVD石墨烯薄膜评价基本原则、核心指标及评价方法、一般要求、评价程序、评价

报告。

本文件适用千转移前CVD石墨烯薄膜(Cu基底）和转移后CVD石墨烯薄厥的评价。1

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可莎;;；〉其｀＼主、日期的引用文件，

仅该日期对应的版本适用千本文件；不注日期的引用文件，其尽新版\:§、所i的修改单）适用千本

文件。

GB/T30544.13纳米科技术语第13部分：石墨烯及相

GB/T

GB/T

GB/T43682纳米技术亚纳米厚度石黑烯薄＄飞侈么衬尹率，及方块电阻测量方法

HG/T

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T/CSTM00166.1石墨

3术语和定义

3.1

石墨烯薄膜g希汕ene飞i.lm

由石墨？才勾瓜·口J才JXI寸守/Io

注：常儿厚反勺vlllllo

［来源：、心J。071-202l,3.3]

3.2

化学气相沉积法chemicalvapordeposition(CVD)

通常先加热，利用气态前驱体或混合前驱体的化学反应实现固体材料在衬底上的沉积。

［来源：GB/T30544.13-2018,3.2.1.1]

3.3

完整度intactness

光学显微镜图像中石墨烯覆盖的基底面积与总基底面积之比。

3.4