光刻机行业深度报告：自主可控攻坚正当时，产业链迎突破黄金期-东方财富证券.docx

行业研究

行业研究/电子/证券研究报告

电子行业深度研究

光刻机行业深度报告：自主可控攻坚正当时，产业链迎突破黄金期

2025年04月11日

【投资要点】

u光刻机为半导体制造核心设备，空间巨大、高度垄断。光刻工艺是半导体制造最核心的工艺之一，光刻机也是技术壁垒最高、市场空间最大的细分设备大类之一。根据AMAT资料，2023年全球957亿美元WFE市场中，光刻机占比约26%、近250亿美元。而光刻机市场高度垄断，荷兰ASML一家便占据绝大多数市场，尤其是在高端产品如EUV、ArFi等领域呈绝对领先，此外日本Nikon、Canon也有一定市场份额。

u光刻机壁垒高筑，核心指标持续迭代演进。光刻机对芯片的曝光效果和大规模量产时的良率、效率都有着极为重要的影响，其首要的核心指标是分辨率，以顺应摩尔定律，进而需要追求波长的缩短（光源）、数值孔径NA的提高（物镜和浸没式）、k1因子的降低（照明条件、计算光刻等），以及催生出了多重曝光技术。此外，光刻机的套刻精度提高、产能提高也是持续迭代的重要方向。

u核心子系统空间可观、供应链稳定集中。荷兰ASML公司2024年系统销售成本为104亿欧元，上游采购空间巨大，其中核心子系统作用关键，主要包括光源（ASML子公司Cymer垄断）、曝光光学系统（照明+物镜，德国Zeiss为核心供应商）、工件台（整机厂商自研）。此外，对准系统、环境控制系统、软件等也是光刻机不可或缺的重要组成。

u国产化攻坚正当时，积极关注产业链公司。在外部贸易环境的不确定性下，同时得益于国内下游土壤丰厚以及产业链自身技术突破，光刻机产业链正面临着自主可控攻坚的紧要关头，整机及上游子系统/零部件厂商将迎来国产化突破及加速的黄金发展期，建议关注细分环节优质厂商茂莱光学、福晶科技、福光股份、菲利华等。

【风险提示】

u国际局势等宏观因素影响需求复苏、关键技术突破不及预期、中美摩擦加剧带来全球产业链重构。

挖掘价值投资成长

强于大市（维持）

东方财富证券研究所

证券分析师：李双亮

证书编号：S1160524100007

证券分析师：王佩麟

证书编号：S1160524100001

相对指数表现

59.51%45.64%31.77%17.90%4.03%-9.85%

4/116/118/1110/1112/112/114/11

电子沪深300

相关研究

《美国关税落地，看好自主可控》

2025.04.08

《多款AI大模型陆续发布，积极关注AI产业链变化》

2025.04.01

《存储涨价周期开启，关注供需格局变化》

2025.03.31

《SEMICONChina2025大会召开，半导体产业迎来新突破》

2025.03.31

《消费电子进入AI时代，苹果手机引领产业链创新》

2025.03.28

电子行业深度研究

2017

正文目录

1.光刻机：晶圆制造核心卡脖子环节，市场空间巨大且高度垄断 5

2.光刻机壁垒高筑，核心指标持续迭代演进 7

2.1.分辨率：光刻机最核心的参数指标，遵循瑞利判据 7

2.1.1.减小光源波长λ为光刻机最重要的技术演进方向 8

2.1.2.提升数值孔径NA同样为光刻机的重要演进方向 9

2.1.3.多措并举，降低k1因子 10

2.1.4.多重曝光（Multi-patterning）技术 13

2.2.套刻精度（Overlay）：影响成像效果和良率的重要因素 15

2.3.产出（Throughput）：直接影响规模量产的效率和成本 17

2.4.光刻机迭代的核心追求 18

3.光刻机零部件市场空间巨大，供应链稳定集中 19

3.1.光源：决定λ的关键，数代演进、原理不一 21

3.2.曝光光学系统：光刻机的核心子系统，Zeiss为核心供应商 24

3.2.1.曝光光学系统之照明模组：调整光照条件，影响k1因子 24

3.2.2.曝光光学系统之物镜：影响NA的关键，设计复杂、加工要求高 26

3.2.3.曝光光学系统格局：光学元件为核心，Zeiss为关键供应商 28

3.3.双工件台：承载和移动晶圆，极大影响套刻精度和产出 29

3.4.其他子系统/零部件 32

3.4.1.对准系统和调焦调平系统 32

3.4.2.环境控制系统 34

3.4.3.软件 34

3.5.ArFi和