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演讲者：xxx薄膜材料

-3.4.3旋涂13.4溶液沉积技术23.4.4浸渍涂层3

3.4.3旋涂Part1

3.4.3旋涂在纺丝过程中，溶剂蒸发，导致膜的干燥，如图3.10所示在这种方法中，要沉积的材料的溶液被分散在一种称为墨水的溶剂中，并且衬底被放置在自旋涂布器上在高速旋转过程中，溶液的向心力和表面张力都起作用，扩散液体，最终排出多余的溶液，使溶液在基底表面均匀分布然而，如果在纺丝后仍有一些溶剂残留，那么它可以通过加热或紫外线处理薄膜来去除继续纺丝，直到形成所需厚度的薄膜它是制备高质量均质薄膜最常用的技术之一，Scriven等人的[29]已经详细解释了该方法然后用位于基底中心的移液管将制备好的油墨滴入水中，然后以高速旋转(通常为2000–4000rpm)起源发展

3.4.3旋涂在此过程中，衬底表面应光滑，使溶液均匀分布，以实现整个薄膜的厚度均匀性旋转涂层可以通过两种方式来完成

3.4溶液沉积技术Part2

3.4溶液沉积技术第一种方法是，将油墨滴铸在基板上，然后进行旋转，这称为静态分配在第二种方式中，基板以相对较低的速度(500–1000rpm)旋转，然后滴铸墨水，这被称为动态分配当液体对基底的润湿性较差，从而导致空隙的形成时，后一种方法是有益的在纺丝涂层过程中，通过调整纺丝速率来控制薄膜的厚度一般来说，在低自旋速率下，与在高自旋速率下涂层的薄膜相比，薄膜将具有更大的厚度除了纺丝速率外，溶液的浓度、溶剂的蒸发速率、溶液的粘度、温度和蒸汽压也在决定薄膜厚度[30]方面起着至关重要的作用一般来说，该层的厚度(h)可以用以下公式表示

3.4溶液沉积技术其中，ρA为挥发性液体的密度，η为溶液的粘度，m为蒸发速率，ω为角速度另一个简单的方程由h?AωB给出A是一个拟合的常数

3.4溶液沉积技术由于溶剂在自旋循环的第一部分开始干燥(50%溶剂将丢失)，因此准确地控制加速是很重要的旋转涂层工艺的优点在于它能够快速和毫不费力地生产出非常均匀的薄膜，其厚度从纳米到几微米不等由于自旋速度高，基底干燥速度快，导致薄膜的均匀性高B是另一个常数，在大多数情况下，介于0.4到0.7之间因此，一般来说，自旋涂层膜的厚度被记为h∝1/√ω衬底向最终自旋速度的加速也会影响薄膜的性能，基本上是在有图案的衬底的情况下

3.4溶液沉积技术然而，旋转涂层是一个在特定时间只能涂层一个样品的过程，从而给予相对较低的输出此外，在需要溶液组件进行自组装的纳米技术应用的情况下，衬底的快速干燥会导致性能较低此外，在涂层过程中，有材料油墨的损耗，因为它大部分被扔出边缘尽管有这些限制，它仍然被认为是一种良好的涂层技术在学术界和工业，因为薄和均匀的涂层在快速处理速度旋转涂层技术的涂层轮廓存在一些常见的缺陷具体情况和图片表示如表3.1所示了解这些将有助于获得高质量的均匀薄膜的设计应用

3.4溶液沉积技术旋转涂层的应用可能会有显著的不同自旋涂层技术广泛应用于光刻技术，用于微或纳米制造的光刻胶例如，溶液加工氧化石墨烯(绝缘体)在大面积上的旋转涂层，然后是氧化石墨烯的位置特定模式(还原氧化石墨烯的可调电导率)显示了无金属(全碳)多功能柔性和可穿戴电子器件的潜力(图3.11)Middya等人(这本书的第8章)在光刻和电极中给出了这方面的细节

3.4.4浸渍涂层Part3

3.4.4浸渍涂层自1950年底以来，浸渍涂料一直在汽车工业中用于生产后视镜和大面积防反射涂料1234567浸涂技术因其简单、成本效益和高度均匀而受欢迎这种技术包括精确控制浸泡、居住和从溶液中提取基质，然后干燥和可选的固化沉积膜该方法广泛应用于非平面的材料，如纤维和不规则形状的表面浸涂技术包括多个成膜阶段，如浸没、居住、提取、干燥，以及可选的沉积后固化阶段，如图3.12[32]所示在浸没阶段，基板以精确控制的速度浸入涂层溶液中，然后在溶液中保持一段特定的时间，这个过程被称为停留，在控制基板退出之前适当的停留时间是必要的，以确保热平衡和最小化湍流引起的基底倾斜

3.4.4浸渍涂层基材上的湿膜的干燥在提取过程开始后不久就开始了根据要求，干燥的沉积膜可以进行也可以不进行固化过程从物理的角度来看，整个薄膜沉积过程是基于夹力和排水力的平衡平衡是由各种力控制，如粘性阻力、表面张力和引力

3.4.4浸渍涂层在薄膜沉积和发展的各个阶段中，关键步骤将在下面的章节中进行讨论图3.11(A)溶液处理氧化石墨烯的旋转涂层和氧化石墨烯-(B)-(E)照片100μm和亚20μm的氧化石墨烯-r氧化石墨烯的示意图

3.4.4浸渍涂层经M.索尼，P.库马尔，J.Pandey，S.K.沙玛，A.索尼，电路元件和柔性电子，碳128(2018)172-178版权所有#2018，爱思唯尔

3.4.4浸渍涂层图3.12浸涂技术中