基于同步辐射的氧化钨外延膜可逆氢化过程与机制深度剖析.docx

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2025-05-29 发布于上海
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基于同步辐射的氧化钨外延膜可逆氢化过程与机制深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

在材料科学的广袤领域中，氧化钨外延膜因其独特的物理化学性质，近年来成为研究热点之一。氧化钨（WO_3）作为一种重要的过渡金属氧化物，具有丰富的晶体结构，常见的包括立方相、单斜相、三斜相、正交相和四方相，其中单斜相在室温下最为稳定。这些不同的晶体结构赋予了氧化钨外延膜一系列优异的性能，如电致变色、气敏性、光催化以及锂离子电池电极材料等方面的潜在应用。

氧化钨外延膜的可逆氢化过程更是展现出诸多独特且极具价值的特性。在可逆氢化过程中，氢原子能够可逆地插入到氧化钨晶格中，形成氢化物H_xWO_3。这一过程不