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真空镀膜生产流程解析
汇报人:文小库
2025-05-04
目录
CONTENTS
01
预处理阶段
02
镀膜准备环节
03
镀膜工艺执行
04
后处理工序
05
质量检测系统
06
设备维护规范
01
预处理阶段
基材清洁工艺
喷砂处理
采用压缩空气为动力,将细小的砂粒高速喷射到基材表面,以去除表面的氧化层、锈蚀、油污等杂质。
01
化学清洗
使用特定的化学溶剂,对基材表面进行浸泡或擦拭,以去除油污、灰尘等污染物。
02
电化学清洗
利用电解原理,在特定的电解液中对基材进行清洗,以达到去除表面污垢和氧化层的目的。
03
表面去油处理
溶剂清洗
使用有机溶剂对基材表面进行清洗,以去除油污和油脂。
01
将基材置于碱性电解液中,通过电解作用去除表面的油污和油脂。
02
超声波去油
利用超声波在液体中的空化作用,将油污和油脂从基材表面震离。
03
电解去油
在较低的温度下对基材进行预干燥,以避免高温下快速干燥引起的变形和开裂。
低温预干燥
在高温高真空的环境下对基材进行干燥,以彻底去除表面和内部的水分和溶剂。
高温真空干燥
在真空室内缓慢冷却基材,以避免因温度变化过快而引起的应力和变形。
冷却降温
真空干燥流程
02
镀膜准备环节
靶材装载标准
靶材安装
根据镀膜材料的特性选择适宜的靶材,如纯度、大小、形状等。
靶材清洁
靶材选择
确保靶材牢固安装在靶位上,避免在镀膜过程中发生松动或脱落。
对靶材表面进行清洗,去除油污、灰尘等杂质,保证镀膜质量。
真空腔室预热
预热温度
根据镀膜材料和工艺要求,设定合理的预热温度。
01
预热时间
确保真空腔室达到所需温度,并稳定一段时间,以去除腔室内的水分和杂质。
02
加热方式
可采用电阻加热、感应加热等方式进行预热。
03
工艺参数预置
真空度
根据镀膜材料的特性,设定合理的真空度,以保证镀膜质量和效果。
01
根据工艺要求和膜厚要求,设定镀膜速率,确保镀膜均匀性。
02
靶材与基片距离
根据镀膜材料的特性,调整靶材与基片之间的距离,以获得理想的镀膜效果。
03
镀膜速率
03
镀膜工艺执行
镀膜室内真空度需达到一定水平,通常在10^-3Pa至10^-5Pa范围内,以保证镀膜质量和效果。
真空度控制标准
真空度要求
根据镀膜室大小和真空度要求,选用合适的真空泵,如机械泵、扩散泵等,确保镀膜过程中真空度的稳定。
真空泵选择
采用真空计实时监测镀膜室内真空度,确保整个镀膜过程在规定的真空度范围内进行。
真空度监测
离子轰击活化
轰击参数设定
选用适合的离子源,如离子枪、离子束等,产生高能离子束对镀件表面进行轰击。
轰击过程控制
离子源选择
根据镀件材质和工艺要求,设定离子束的能量、电流密度、轰击时间等参数,确保活化效果。
在轰击过程中,需严格控制离子束的均匀性和稳定性,以保证镀件表面活化均匀,提高镀膜附着力。
膜层沉积监测
膜厚监测
采用膜厚测量仪实时监测镀膜过程中膜层的厚度,确保膜层厚度达到设计要求。
01
膜质监测
通过监测镀膜过程中的电学参数、光学参数等,判断膜层的材质和性能,确保镀膜质量。
02
终点判断
根据膜厚和膜质监测结果,判断镀膜过程是否达到终点,避免镀膜过厚或过薄导致质量不稳定。
03
04
后处理工序
冷却降压操作
冷却方式选择
自然冷却或强制冷却,确保镀件温度降至室温或更低,防止膜层脱落。
01
降压速率需控制在一定范围内,以避免镀件内部应力过大而导致膜层开裂。
02
冷却介质选择
采用惰性气体或真空环境进行冷却,以减少对膜层的污染。
03
降压速度控制
根据镀膜材料特性,设定合理的固化温度,使膜层达到最佳状态。
固化温度设定
固化时间需足够,以确保膜层完全固化,提高膜层与镀件之间的结合力。
固化时间控制
采用真空或惰性气体环境进行固化,避免膜层被氧化或污染。
固化环境选择
膜面固化处理
静电消除方法
通过静电测试仪等设备,检测镀件表面静电的消除情况,确保后续工序顺利进行。
静电消除效果评估
静电预防措施
在镀膜过程中,采取接地、加湿等措施,预防静电的产生和积累。
采用离子风枪、静电消除器等设备,去除镀件表面附着的静电。
除静电工艺
05
质量检测系统
膜层厚度检测
电阻法
利用光波干涉原理测量薄膜厚度,具有高精度和非破坏性。
椭圆偏振光法
干涉显微镜法
根据膜层电阻值推算厚度,适用于金属薄膜。
测量入射光与反射光之间的相位差,计算薄膜厚度和折射率。
附着力测试法
划痕法
以一定力度在膜层表面划痕,观察膜层破损情况评估附着力。
01
通过拉伸或剥离测试,测量膜层与基材之间的结合力。
02
热震法
利用快速加热和冷却导致膜层与基材的热膨胀系数差异,评估膜层附着力。
03
拉拔法
光学性能验证
通过测量膜层对不同波长光的反射率,评估其光学性能。
反射率测量
测量光通过膜层
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