光电发射过程相关的实验技术讲义2-NEWtechnique.pptVIP

通过XMCD方法得到的Fe-OEP/Ni/Cu(100)体系Fe(红方块)和Ni(蓝线)元素分辨的磁滞回线。利用GGA+U方法计算得到的Fe-OEP/Co体系的磁化密度。Fe和Co原子周围的等磁化密度面标为蓝色，其它原子的颜色分别为：C-黄，H-深绿，N-红。四个氮原子被衬底自旋极化，指向Co表面而且磁化密度延伸到衬底表面(如橙色部分所示)。光电发射电子显微镜

PhotoEmissionElectronMpicroscope(PEEM)?发展简史?基本原理和仪器?应用发展简史第一台PEEM的发明要追溯到上世纪30年代，伴随着电子透镜和所谓的发射显微方法的建立。1932年，E.Brüche以UV为光源得到了从金属发射的光电子的图象二十世纪80和90年代，G.Rempfer,E.Bauer,G.Schoenhense和B.Tonner等改进了电子光学系统，其结构类似于低能电子显微镜(LEEM)关键技术：超高真空，表面敏感的结构和化学分析方法(特别是光电子能谱)，图象增强剂和电子/光子探测器的快速发展，大功率低发射度同步辐射的光源的建设光电发射电子显微镜(PEEM)记录的是由样品吸收电离辐射而发射的电子。电子被样品与物透镜(也称阴极透镜)的外电极之间的强电场加速，物镜产生的放大图象再被一系列磁或静电电子透镜放大上百或上千倍，最后用二维电子探测器记录电子的发射。收集的电子有的来自直接发射，有的来自间接发射，如俄歇电子和经非弹性散射过程产生的低能电子等。基本原理和仪器电子光学系统通常对于来自于初级电子非弹性散射产生的1-5eV的低能二次电子，以及50-100?以内表面的Auger电子的透射是最有效的，PEEM是表面敏感的技术。每一个光子能量下图象的强度与样品中组分的X射线吸收截面有关。基于同步辐射的PEEM的优势是可以通过调节光子能量使该技术具有化学敏感性。因此所有X-PEEM都需要同步辐射的高亮度和宽谱带，从中可以选择需要的具体波长。PEEM甚至可以揭示表面下的磁性结构、界面结构等。PEEM仪器核心部分是电子透镜，其中有纯粹的静电透镜，也有的包含磁透镜。由于加到具有不同表面特征(粗糙表面)的电场的变形造成的。电子加速电场的弯曲打乱了电子的轨迹，从而产生图象的不同衬度，其结果是造成分辨率和局部聚焦水平的降低。表面形貌衬度的产生机制表面形貌衬度功函数衬度当使用UV光激发时，功函数衬度占据主导，此时的光子能量接近于表面材料的功函数。对多组分表面材料体系，局部功函数的差异就会导致电子发射的巨大反差。表面材料的功函数对光电发射的影响元素衬度元素衬度是通过调节入射X射线波长跨越元素的吸收边来实现的。当电子从基态能级激发到价电子态时，会产生强烈的共振效应，此时X射线吸收及导致的光电子的发射强度在元素的吸收边强烈增强。这种增强效应是对原子的化学环境敏感的，因此表面上包含对应元素的区域发射更多的光电子，从而在PEEM图象中会在指定元素吸收边处显得更明亮。PEEM中的化学元素衬度的来源化学成分衬度是利用近边X射线吸收精细结构谱获得的。典型情况是在指定的吸收边附近采集若干不同X射线能量下的图象，图象之间的差异可以用来探测表面的局域成键特征。化学成分衬度PEEM-2采集的化学成分衬度图象磁性衬度是利用同步辐射的偏振特性，通过磁性园二色(XMCD)或线二色(XMLD)获得的。利用偏振X光激发采集的PEEM图象可以呈现磁性材料和薄膜常常显示的磁畴。L3/2吸收边的MCD对铁磁畴的方向是敏感的，无论用相反或相同偏振性的光在L3和L2两个能量边采集的PEEM图象，所形成的成比例或非对称图象会显示磁畴结构，其它的衬度会被抑制。反铁磁体是用线偏振的X射线用类似的方式成像。强的X射线磁性线二色出现于过渡金属氧化物的L边，适当能量下的XMLD图象显示反铁磁畴结构。Co/LaFeO3铁磁/反铁磁双层结构，所展示的是两种材料之间的界面交换偶合作用。磁性衬度分子轨道的取向用线偏振的X射线探测，因为当入射光的电场矢量方向与分子轨道的取向平行时可以获得比垂直时更强的吸收。取向衬度egorbitalst2gorbitals3z2-r2x2-y2zxyzxyLiCu_fccAuAc几种金属的3D费米面石墨的3D层状结构示意图石墨单晶的3D能带结构KishGraphite面心立方Cu的3D费米面???????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????用角分辨光